廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領域。
厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年,，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,，如一些特殊的電路板制造。
SU - 3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應,。重量為 100g,，常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域,。
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率，準確性和穩(wěn)定性好,。主要應用于液晶平板顯示器的制造,，能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強酸強堿,，耐高溫達 250°C,，長期可靠性高，粘接強度高,。重量 100g,，適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如一些半導體器件的制造。
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正性光刻膠（如 YK-300）
應用場景：用于芯片的精細圖案化，如集成電路（IC）,、分立器件（二極管,、三極管）的制造。
特點：高分辨率（可達亞微米級）,，適用于多層光刻工藝,，確保芯片電路的高精度與可靠性。
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負性光刻膠（如 JT-1000）
應用場景：用于功率半導體（如 MOSFET,、IGBT）的制造,，以及傳感器（如 MEMS）的微結構成型。
特點：抗蝕刻能力強,，適合復雜圖形的轉移,，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
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納米壓印光刻膠（JT-2000）
應用場景：第三代半導體（GaN,、SiC）芯片,、量子點器件及微流控芯片的制造。特點：耐高溫（250℃）,、耐酸堿,，支持納米級精度圖案復制，降低芯片的制造成本,。
遼寧阻焊油墨光刻膠廠家吉田半導體光刻膠,，45nm 制程驗證，國產(chǎn)替代方案!
工藝流程
目的：去除基板表面油污,、顆粒,，增強感光膠附著力。
方法：
化學清洗（硫酸/雙氧水,、去離子水）,；
表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板用粗化處理）,。
涂布（Coating）
方式：
旋涂：半導體/顯示領域,，厚度控制精確（納米至微米級），轉速500-5000rpm,；
噴涂/輥涂：PCB/MEMS領域,，適合大面積或厚膠（微米至百微米級，如負性膠可達100μm）,。
關鍵參數(shù)：膠液黏度,、涂布速度、基板溫度（影響厚度均勻性）。
前烘（Soft Bake）
目的：揮發(fā)溶劑,，固化膠膜,，增強附著力和穩(wěn)定性。
條件：
溫度：60-120℃（正性膠通常更低,，如90℃,；負性膠可至100℃以上）；
時間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調整,，厚膠需更長時間）,。
曝光（Exposure）
光源：
紫外光（UV）：G線（436nm）、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）,；
深紫外（DUV）：248nm（KrF）,、193nm（ArF）用于半導體先進制程（分辨率至20nm）；
極紫外（EUV）：13.5nm,，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）,。
曝光方式：
接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB,、MEMS,，低成本但精度低）；
投影式：通過物鏡聚焦（半導體,，分辨率高,，如ArF光刻機精度達22nm）。
作為東莞松山湖的企業(yè),，吉田半導體深耕光刻膠領域 23 年,，成功研發(fā)出 YK-300 半導體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，良率達 98% 以上，已通過中芯國際等晶圓廠驗證,；JT-2000 突破耐高溫極限,，在 250℃復雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,，產(chǎn)品通過 ISO9001 認證及歐盟 RoHS 標準，遠銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,，加速國產(chǎn)替代進程,。光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年研發(fā)經(jīng)驗,，全自動化生產(chǎn)保障品質!
憑借多年研發(fā)積累,，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領域的豐富產(chǎn)品線,。在焊接材料方面,，不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品，滿足精密電子組裝的多樣化需求,。同時,，感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類，兼具耐潮性與易操作性,，廣泛應用于印刷電路板制造,。
公司產(chǎn)品遠銷全球，并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關系,。通過在重點區(qū)域設立辦事處,，提供快速響應的技術支持與售后服務。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,，公司強化供應鏈協(xié)同,，縮短交付周期，為客戶提供高效解決方案,。
未來,，廣東吉田半導體材料有限公司將繼續(xù)深化技術創(chuàng)新，拓展產(chǎn)品應用領域,，以可靠的產(chǎn)品與專業(yè)的服務,，持續(xù)鞏固其在半導體材料行業(yè)的重要地位。
吉田技術研發(fā)與生產(chǎn)能力,。云南阻焊油墨光刻膠供應商
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廣東吉田半導體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，是一家專注于半導體材料研發(fā),、生產(chǎn)與銷售的技術企業(yè),。公司注冊資本 2000 萬元，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗,，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠,、半導體錫膏,、焊片及靶材等，服務全球市場并與多家世界 500 強企業(yè)建立長期合作關系,。
作為國家技術企業(yè),，吉田半導體以科技創(chuàng)新為驅動力,，擁有多項技術，并通過 ISO9001:2008 質量體系認證,。生產(chǎn)過程嚴格遵循 8S 現(xiàn)場管理標準,，原材料均采用美、德,、日等國進口的材料,，確保產(chǎn)品質量穩(wěn)定可靠。公司配備全自動化生產(chǎn)設備,，具備行業(yè)大型的規(guī)�,；a(chǎn)能力，致力于成為 “半導體材料方案提供商”,。
其明星產(chǎn)品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300,，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能；3 微米負性光刻膠 SU-3,，適用于厚膜工藝,；耐高溫達 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000，可滿足高精度微納加工需求,。所有產(chǎn)品均符合要求,，部分型號通過歐盟 ROHS 認證。
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廣東吉田半導體材料有限公司是一家有著先進的發(fā)展理念,，先進的管理經(jīng)驗,，在發(fā)展過程中不斷完善自己,，要求自己,，不斷創(chuàng)新，時刻準備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,，在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及客戶資源,，在業(yè)界也收獲了很多良好的評價，這些都源自于自身的努力和大家共同進步的結果,，這些評價對我們而言是最好的前進動力,，也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強、一往無前的進取創(chuàng)新精神,，努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個新高度,，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同吉田半導體供應和您一起攜手走向更好的未來,，創(chuàng)造更有價值的產(chǎn)品,，我們將以更好的狀態(tài)，更認真的態(tài)度,，更飽滿的精力去創(chuàng)造,，去拼搏,，去努力，讓我們一起更好更快的成長,！
