廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),，注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元,。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā),、生產(chǎn)與銷售,，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠,、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率,、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱,，廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn),。
公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累,，構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系，擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù),。原材料均選用美國(guó),、德國(guó)、日本進(jìn)口的材料,，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證,，生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性,。目前,，吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球市場(chǎng),，致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),。
吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破！青海正性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠）
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液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產(chǎn)過(guò)程中,，光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案,，包括像素電極、公共電極,、取向?qū)訄D案等,。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率,、對(duì)比度,、視角等。
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有機(jī)發(fā)光二極管顯示器（OLED）制造：OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來(lái)制作電極,、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn),，而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作,，提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。
珠海激光光刻膠廠家水性感光膠推薦吉田 JT-1200,，水油兼容配方,，鋼片加工精度 ±5μm,！
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全品類覆蓋
吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠,、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造,、顯示面板,、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商,。
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關(guān)鍵技術(shù)突破
納米壓印技術(shù)：JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃,，支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制，適用于第三代半導(dǎo)體（GaN/SiC）及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,，技術(shù)指標(biāo)接近國(guó)際先進(jìn)水平。
水性環(huán)保配方：JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑,，低 VOC 排放,，符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn)，環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品,。
厚膜工藝能力：JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控（達(dá)數(shù)十微米）,，滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。
感光機(jī)制
重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉）,，曝光后通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)固化,，適用于精細(xì)圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。
SBQ型（單液型）：預(yù)混光敏劑,，無(wú)需調(diào)配,，感光度高（曝光時(shí)間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）,。
環(huán)保型：采用無(wú)鉻配方（如CN10243143A）,，通過(guò)多元固化體系（熱固化+光固化）實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm快速曝光，分辨率達(dá)2μm,，符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn),。
功能細(xì)分
耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精,、甲苯等溶劑,，適用于電子油墨印刷。
耐水型：如瑞士科特1711,，抗水性強(qiáng),，適合紡織品水性漿料。
厚版型：如德國(guó)Kppen厚版膠,，單次涂布可達(dá)50μm,，用于立體印刷,。
典型應(yīng)用場(chǎng)景：
PCB制造：使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠，配合LED曝光（405nm波長(zhǎng)）,，實(shí)現(xiàn)0.15mm線寬,，耐酸性蝕刻液。
紡織印花：圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠,，涂布厚度20μm,，耐堿性染料色漿，耐印率超10萬(wàn)次,。
包裝印刷：柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材,，UV-LED曝光+無(wú)溶劑工藝，碳排放降低40%,。
吉田半導(dǎo)體光刻膠,，45nm 制程驗(yàn)證，國(guó)產(chǎn)替代方案,！
關(guān)鍵工藝流程
涂布與前烘：
旋涂或噴涂負(fù)性膠,，厚度可達(dá)1-100μm（遠(yuǎn)厚于正性膠），前烘溫度60-90℃,，去除溶劑并增強(qiáng)附著力,。
曝光：
光源以**汞燈G線（436nm）**為主，適用于≥1μm線寬,，曝光能量較高（約200-500mJ/cm）,，需注意掩膜版與膠膜的貼合精度。
顯影：
使用有機(jī)溶劑顯影液（如二甲苯,、醋酸丁酯）,，未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解，曝光的交聯(lián)膠膜保留,。
后處理：
后烘（Post-Bake）：加熱（100-150℃）進(jìn)一步固化交聯(lián)結(jié)構(gòu),，提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力。
厚板光刻膠 JT-3001,，抗深蝕刻,，PCB 電路板制造Preferred!浙江厚膜光刻膠
納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)？吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%,！青海正性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
納米電子器件制造
半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中,，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),，實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）,。
二維材料器件：在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,，通過(guò)電子束光刻膠定義納米電極陣列,，構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器,。
納米光子學(xué)與超材料
光子晶體與波導(dǎo)：利用光刻膠制備亞波長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)（如光子晶體光纖、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭）,，調(diào)控光的傳播路徑,，用于集成光路或量子光學(xué)器件。
超材料設(shè)計(jì)：在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚(yú)網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案（如太赫茲超材料）,，實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的超常調(diào)控（吸收,、偏振轉(zhuǎn)換）。
青海正性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
