1. 反滲透膜的孔徑極小，一般在 0.1 - 1 納米之間,，能夠有效截留大部分有機(jī)污染物,。無(wú)論是大分子有機(jī)物，如蛋白質(zhì),、多糖,、微生物產(chǎn)生的胞外聚合物等，還是小分子有機(jī)物,，如農(nóng)藥,、染料、石油類有機(jī)物,、有機(jī)鹵化物等,，都能被大量去除。例如,，在工業(yè)廢水處理用于回用制備超純水時(shí),，對(duì)于廢水中的復(fù)雜有機(jī)污染物，反滲透法可以去除其中 90% 以上的有機(jī)成分,，提高了水的純度,。反滲透過(guò)程不僅對(duì)有機(jī)污染物有很好的去除效果，還能去除水中的溶解性固體（如鹽類）,、膠體,、細(xì)菌、病毒等雜質(zhì),。這是因?yàn)榘胪改さ奶匦允沟弥挥兴�分子能夠通過(guò),，而幾乎所有其他雜質(zhì)都被截留。在超純水制備過(guò)程中,，這一特性可以簡(jiǎn)化處理流程,，減少后續(xù)處理步驟的負(fù)擔(dān)。例如,，在電子工業(yè)的超純水制備中,，反滲透可以一次性去除水中的重金屬離子、微生物和有機(jī)雜質(zhì),，為后續(xù)的離子交換和超濾等步驟提供較好的進(jìn)水水質(zhì),。超純水的生產(chǎn)能耗較高，節(jié)能技術(shù)是發(fā)展方向,。甘肅技術(shù)密集超純水

雜質(zhì)含量：原水（如自來(lái)水,、地表水或地下水）中的雜質(zhì)種類和含量是影響超純水質(zhì)量的首要因素,。如果原水中含有大量的溶解性固體，包括鈣,、鎂,、鈉等陽(yáng)離子和氯、硫酸根等陰離子,，會(huì)增加后續(xù)處理的難度,。例如，原水中高濃度的鈣,、鎂離子可能導(dǎo)致在管道和設(shè)備中形成水垢,，影響設(shè)備的運(yùn)行效率和超純水的質(zhì)量。此外,，原水中的有機(jī)物含量也很關(guān)鍵,，像腐殖酸、富里酸等天然有機(jī)物,，會(huì)在后續(xù)的處理過(guò)程中與消毒劑或其他化學(xué)藥劑發(fā)生反應(yīng),，生成副產(chǎn)物，影響超純水的純度,。微生物污染：原水中的微生物,，如細(xì)菌、病毒,、藻類等,，也是重要的影響因素。微生物的存在可能會(huì)在超純水制備系統(tǒng)中繁殖,，堵塞過(guò)濾器和膜組件,，并且其代謝產(chǎn)物還會(huì)增加水中的有機(jī)物和營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)含量。例如,，細(xì)菌在水中生長(zhǎng)繁殖會(huì)分泌胞外聚合物,，這些物質(zhì)可能會(huì)附著在反滲透膜或離子交換樹脂上，降低它們的性能,。甘肅超純水項(xiàng)目超純水的生產(chǎn)需控制原水中的硅含量以滿足工藝要求,。

清洗前準(zhǔn)備，收集反滲透系統(tǒng)運(yùn)行數(shù)據(jù),，包括進(jìn)水壓力,、產(chǎn)水壓力、產(chǎn)水量,、脫鹽率等參數(shù)在一段時(shí)間內(nèi)的變化曲線,，以確定膜性能下降的程度和趨勢(shì),。對(duì)反滲透膜元件進(jìn)行取樣分析,，可采用掃描電子顯微鏡（SEM）觀察膜表面的污染物形態(tài),，通過(guò)傅里葉變換紅外光譜（FTIR）分析污染物的化學(xué)成分，從而確定主要的污染類型,，如無(wú)機(jī)鹽垢,、有機(jī)物污染、生物膜污染等,。準(zhǔn)備清洗設(shè)備與藥劑,，清洗水箱：選用耐腐蝕、耐酸堿且與清洗液不發(fā)生反應(yīng)的材質(zhì)制成的水箱,，容量根據(jù)膜組件數(shù)量和清洗液用量確定,，一般要保證有足夠的空間容納清洗液并能進(jìn)行循環(huán)操作，例如,，對(duì)于一套處理量為 100m/h 的反滲透系統(tǒng),，清洗水箱容量可選擇 5 - 10m。清洗泵：泵的流量和揚(yáng)程應(yīng)滿足清洗要求,，流量一般為膜組件正常運(yùn)行流量的 1/3 - 1/2,，揚(yáng)程要能克服膜組件和管道的阻力并提供一定的循環(huán)動(dòng)力，如選用流量為 30 - 50m/h,、揚(yáng)程為 30 - 50m 的離心泵,。

各類科學(xué)實(shí)驗(yàn)：在化學(xué)實(shí)驗(yàn)、生物實(shí)驗(yàn),、物理實(shí)驗(yàn)等實(shí)驗(yàn)室中,，超純水常被用作反應(yīng)物、溶劑或沖洗用水等,。例如,，在細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)中，需要使用超純水來(lái)配制培養(yǎng)基,，以避免水中的有機(jī)污染物和雜質(zhì)對(duì)細(xì)胞生長(zhǎng)產(chǎn)生影響,；在化學(xué)分析實(shí)驗(yàn)中，超純水可作為空白對(duì)照或用于配制標(biāo)準(zhǔn)溶液,，確保實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和可靠性機(jī)械過(guò)濾：通常采用石英砂過(guò)濾器,、活性炭過(guò)濾器等，去除原水中的懸浮物,、泥沙,、鐵銹、膠體等大顆粒雜質(zhì)和部分有機(jī)物,，保護(hù)后續(xù)的反滲透膜,。比如，石英砂過(guò)濾器可有效截留 5μm 以上的顆粒物質(zhì)245.軟化處理：若原水硬度較高,，還需進(jìn)行軟化處理,，一般使用軟化樹脂過(guò)濾器,，去除水中的鈣、鎂離子,，防止其在反滲透膜表面結(jié)垢,，影響膜的性能和壽命4.精密過(guò)濾：在進(jìn)入反滲透系統(tǒng)前，經(jīng)過(guò)保安過(guò)濾器進(jìn)行精密過(guò)濾,，進(jìn)一步去除水中殘留的微小顆粒雜質(zhì),，確保進(jìn)水的 SDI 值滿足反滲透膜的要求，通常要求 SDI 值小于 5,，保護(hù)反滲透膜不受堵塞23.原子吸收光譜分析用水必須為超純水,，避免背景干擾。

連接管道：采用耐酸堿的塑料管道（如 UPVC 或 PVDF）連接清洗水箱,、清洗泵和反滲透膜組件,，管道直徑根據(jù)流量計(jì)算確定，同時(shí)要保證連接牢固,、無(wú)泄漏,。化學(xué)藥劑,，酸性清洗劑：如檸檬酸,，純度不低于 99%，用于去除鈣,、鎂等無(wú)機(jī)鹽垢,。根據(jù)膜污染程度，將檸檬酸配制成 0.2% - 0.5%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）的溶液,，例如,，對(duì)于 5m 的清洗水箱，需稱取 10 - 25kg 檸檬酸,，先在少量水中溶解后再加入清洗水箱并補(bǔ)充水至規(guī)定體積,。堿性清洗劑：可選用氫氧化鈉，純度不低于 96%,，用于去除有機(jī)物和生物膜污染,。配制成 0.1% - 0.3%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）的氫氧化鈉溶液，操作方法同酸性清洗劑配制,。氧化劑清洗劑：如過(guò)氧化氫（濃度為 30%）或次氯酸鈉（有效氯含量不低于 10%）,，用于處理生物膜和一些難以氧化的有機(jī)物。過(guò)氧化氫溶液濃度可配制成 0.1% - 0.3%（體積分?jǐn)?shù)）,，次氯酸鈉溶液有效氯濃度控制在 200 - 500ppm,，配制時(shí)需注意安全，在通風(fēng)良好的環(huán)境下操作并穿戴防護(hù)用品。超純水的儲(chǔ)存與使用過(guò)程需防止光照引起水質(zhì)變化,。甘肅超純水項(xiàng)目

超純水的色度幾乎為零,，呈現(xiàn)極高的光學(xué)純凈度。甘肅技術(shù)密集超純水

電子行業(yè) 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,，超純水的應(yīng)用極為關(guān)鍵。芯片制造過(guò)程中,，從硅片的清洗,、光刻、蝕刻到離子注入等各個(gè)工序,，都需要超純水,。例如，在硅片清洗過(guò)程中,，超純水可以有效去除硅片表面的顆粒,、有機(jī)物和金屬離子等雜質(zhì)。因?yàn)樾酒�的線寬非常小,，微小的雜質(zhì)顆粒都可能導(dǎo)致芯片短路或出現(xiàn)性能問(wèn)題,。在光刻工藝中，超純水用于沖洗光刻膠,，確保光刻圖案的準(zhǔn)確性,。其高純度能夠避免水中雜質(zhì)對(duì)光刻膠的溶解特性產(chǎn)生影響，從而保障芯片的高精度制造,。 對(duì)于電子元器件的生產(chǎn),，如電路板的制作，超純水也不可或缺,。它用于清洗電路板,，去除焊接過(guò)程中產(chǎn)生的助焊劑殘留物、金屬屑等雜質(zhì),。這些雜質(zhì)如果殘留在電路板上,，可能會(huì)引起電路的腐蝕或短路，影響電子產(chǎn)品的可靠性和使用壽命,。甘肅技術(shù)密集超純水