吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘,,國產(chǎn)替代再迎新進展
自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證,,吉田半導體填補國內光刻膠空白。
吉田半導體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠,,分辨率達 90nm,,適用于 14nm 及以上制程,已通過中芯國際量產(chǎn)驗證,。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方,,突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%,,蝕刻選擇比達 4:1,,性能對標日本信越的 ArF 系列。吉田半導體的技術突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進程,,為國內晶圓廠提供高性價比解決方案,。
吉田半導體光刻膠,45nm 制程驗證,,國產(chǎn)替代方案,!東莞油墨光刻膠
吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產(chǎn)技術賦能 5G 芯片封裝
自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料,。
針對 5G 芯片封裝需求,,吉田半導體自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性,,已應用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝,,不采用國外材料,,成本較進口產(chǎn)品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,,為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐,。
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吉田半導體助力區(qū)域經(jīng)濟,,構建半導體材料生態(tài)圈,,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導體聯(lián)合上下游資源,,推動東莞松山湖半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導體聯(lián)合光刻機制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈,。公司通過技術輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,,促進產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。例如,與華中科技大學合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,,極限分辨率 120nm,,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,已實現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,,為區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展注入新動能,。
國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領域,,計劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā),相當于前兩期投入總和的3倍,。
地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設備采購補貼+稅收減免,,武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術獲中芯國際百萬級訂單;福建省提出2030年化工新材料自給率達90%,,光刻膠是重點突破方向,。
研發(fā)專項:科技部“雙十計劃”設立20億元經(jīng)費,要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,,并啟動EUV光刻膠預研,。
光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應用。
光刻膠的主要應用領域
光刻膠是微電子制造的主要材料,廣泛應用于以下領域:
半導體制造
功能:在晶圓表面形成微細電路圖案,,作為蝕刻或離子注入的掩膜,。
分類:
正性光刻膠:曝光區(qū)域溶解于顯影液,形成與掩膜版一致的圖案(主流,,分辨率高),。
負性光刻膠:未曝光區(qū)域溶解,形成反向圖案(用于早期工藝,,耐蝕刻性強),。
技術演進:隨制程精度提升,需匹配不同曝光波長(紫外UV,、深紫外DUV,、極紫外EUV),例如EUV光刻膠用于7nm以下制程。
平板顯示(LCD/OLED)
彩色濾光片(CF):在玻璃基板上制作紅/綠/藍像素單元,光刻膠用于圖案化黑矩陣(BM),、彩色層(R/G/B)和保護層。
電極圖案:制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極,,需高透光率和精細邊緣控制。
印刷電路板(PCB)
線路蝕刻:在覆銅板上涂膠,,曝光顯影后保留線路區(qū)域,蝕刻去除未保護的銅箔,,形成導電線路,。
阻焊與字符層:阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,防止短路,;字符膠用于印刷電路板標識,。
LED與功率器件
芯片制造:在藍寶石/硅基板上制作電極和量子阱結構,需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠,。
Micro-LED:微米級芯片轉移和陣列化,,依賴超高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)。
聚焦封裝需求,,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務,。黑龍江厚膜光刻膠品牌
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產(chǎn)品特點:耐溶劑型優(yōu)良,,抗潮耐水性好,耐印率高,;固含量高,,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術處理,,網(wǎng)版平滑,、無白點、無沙眼,、亮度高,;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用,;解像性,、高架橋性好,易做精細網(wǎng)點和線條,;感光度高,,曝光時間短,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間,,提高工作效率 。
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應用范圍:適用于塑料,、皮革,、標牌、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細印刷需求,,制作各類標牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
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