憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式,，吉田半導(dǎo)體的材料遠(yuǎn)銷全球，并與多家跨國企業(yè)建立長期合作,。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏,、儲能等清潔能源領(lǐng)域，助力客戶實現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好,。公司通過導(dǎo)入國際標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證（如 ISO14001 環(huán)境管理體系）,，進一步強化了在環(huán)保領(lǐng)域的競爭力。
未來,，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動,，深化綠色制造戰(zhàn)略，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低碳化,、可持續(xù)發(fā)展貢獻力量,。以品質(zhì)為依托,，深化全球化布局，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動力,。
光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應(yīng)用,。江蘇光刻膠工廠
研發(fā)投入的“高門檻”
一款KrF光刻膠的研發(fā)費用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元,。國內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)營收只5.4億元,，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術(shù)攻關(guān),。
2. 價格競爭的“雙重擠壓”
國內(nèi)PCB光刻膠價格較國際低30%,，但半導(dǎo)體光刻膠因性能差距，價格為進口產(chǎn)品的70%,，而成本卻高出20%,。例如，國產(chǎn)ArF光刻膠售價約150萬元/噸,，而日本同類產(chǎn)品為120萬元/噸,，且性能更優(yōu)。
突破路徑與未來展望
原材料國產(chǎn)化攻堅：聚焦樹脂單體合成,、光酸純化等關(guān)鍵環(huán)節(jié),，推動八億時空、怡達股份等企業(yè)實現(xiàn)百噸級量產(chǎn),。
技術(shù)路線創(chuàng)新：探索金屬氧化物基光刻膠,、電子束光刻膠等新方向，華中科技大學(xué)團隊已實現(xiàn)5nm線寬原型驗證,。
產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新：借鑒“TSMC-供應(yīng)商”模式,，推動晶圓廠與光刻膠企業(yè)共建聯(lián)合實驗室，縮短認(rèn)證周期,。
政策與資本雙輪驅(qū)動：依托國家大基金三期,，對通過驗證的企業(yè)給予設(shè)備采購補貼（30%），并設(shè)立專項基金支持EUV光刻膠研發(fā),。
江蘇光刻膠工廠吉田產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同與政策紅利,。
國際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證
公司通過ISO9001、ISO14001等認(rèn)證,，并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理,，生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達Class 10級。其光刻膠產(chǎn)品已通過京東方,、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證,，在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR,、德國默克競爭的廠商,。
全流程可追溯體系
吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統(tǒng),，關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)（如樹脂分子量分布、光敏劑純度）實時上傳云端,，確保產(chǎn)品一致性和可追溯性,。這一體系使其在車規(guī)級芯片等對可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破，2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%,。
工藝流程
目的：去除基板表面油污,、顆粒，增強感光膠附著力,。
方法：
化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水,、去離子水）；
表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,，PCB基板用粗化處理）,。
涂布（Coating）
方式：
旋涂：半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域，厚度控制精確（納米至微米級）,，轉(zhuǎn)速500-5000rpm,；
噴涂/輥涂：PCB/MEMS領(lǐng)域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級,，如負(fù)性膠可達100μm）,。
關(guān)鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度,、基板溫度（影響厚度均勻性）,。
前烘（Soft Bake）
目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜,，增強附著力和穩(wěn)定性,。
條件：
溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃,；負(fù)性膠可至100℃以上）,；
時間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調(diào)整,，厚膠需更長時間）,。
曝光（Exposure）
光源：
紫外光（UV）：G線（436nm）、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）,；
深紫外（DUV）：248nm（KrF）,、193nm（ArF）用于半導(dǎo)體先進制程（分辨率至20nm）；
極紫外（EUV）：13.5nm,，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）,。
曝光方式：
接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB、MEMS,，低成本但精度低）,；
投影式：通過物鏡聚焦（半導(dǎo)體,，分辨率高，如ArF光刻機精度達22nm）,。
吉田半導(dǎo)體實現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。
厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。
負(fù)性光刻膠
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SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng),，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
正性光刻膠
PCB廠商必看！這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%,。中山UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商
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LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,，重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果,。
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半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,，23 年研發(fā)經(jīng)驗,，全自動化生產(chǎn)保障品質(zhì)!江蘇光刻膠工廠
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：
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芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲,，支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
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顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%，成為京東方,、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
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新能源領(lǐng)域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證，批量應(yīng)用于寧德時代儲能系統(tǒng),，年供貨量超 500 噸,。
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研發(fā)投入：年研發(fā)費用占比超 15%，承擔(dān)國家 02 專項課題,，獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”,。
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產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%,。
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質(zhì)量體系：通過 ISO9001,、IATF 16949 等認(rèn)證，生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,，批次穩(wěn)定性達 99.5%,。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā)，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,，目標(biāo)在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn),。同時，深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”。
從突破國際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,，走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路。未來,，公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù),，助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
江蘇光刻膠工廠
