光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠）
-
液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產(chǎn)過程中,，光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案,，包括像素電極、公共電極,、取向?qū)訄D案等,。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率,、對比度,、視角等。
-
有機(jī)發(fā)光二極管顯示器（OLED）制造：OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),。OLED 顯示器具有自發(fā)光,、響應(yīng)速度快等優(yōu)點，而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作,，提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 ,。
松山湖光刻膠廠家吉田，2000 萬級產(chǎn)能,，48 小時極速交付!天津油墨光刻膠國產(chǎn)廠商
技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)重構(gòu)的臨界點
光刻膠技術(shù)的加速突破正在推動芯片制造行業(yè)進(jìn)入“材料定義制程”的新階段,。中國在政策支持和資本推動下，已在KrF/ArF領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)局部突破,，但EUV等領(lǐng)域仍需5-10年才能實現(xiàn)替代,。未來3-5年，EUV光刻膠研發(fā),、原材料國產(chǎn)化及客戶認(rèn)證進(jìn)度將成為影響產(chǎn)業(yè)格局的主要變量,。國際競爭將從單純的技術(shù)比拼轉(zhuǎn)向“專利布局+供應(yīng)鏈韌性+生態(tài)協(xié)同”的綜合較量，而中國能否在這場變革中占據(jù)先機(jī),，取決于對“卡脖子”環(huán)節(jié)的持續(xù)攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)鏈的深度整合,。
甘肅正性光刻膠供應(yīng)商光刻膠的顯示面板領(lǐng)域。
吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠：國產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝
自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,，成為 5G 芯片高密度封裝材料,。
針對 5G 芯片封裝需求，吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠,，分辨率達(dá) 1.5μm,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性,，已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn),。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝，不采用國外材料,，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐,。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板、負(fù)性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。
厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。
負(fù)性光刻膠
-
SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng),，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
正性光刻膠
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年專注研發(fā),，全系列產(chǎn)品覆蓋芯片制造與 LCD 面板,！
-
LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果,。
-
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域,，計劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍,。
地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免,，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單,；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%,，光刻膠是重點突破方向。
研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費,，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,，并啟動EUV光刻膠預(yù)研。
光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應(yīng)用。珠海厚膜光刻膠工廠
松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!天津油墨光刻膠國產(chǎn)廠商
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域,。
LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力的特點,，重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果,。
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100：重量 1L,，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝中,，比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。
天津油墨光刻膠國產(chǎn)廠商
