德國(guó) Polos 光刻機(jī)系列的一大突出優(yōu)勢(shì),，便是能夠輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。在科研工作中，創(chuàng)新的設(shè)計(jì)理念往往需要快速驗(yàn)證,，而 Polos 光刻機(jī)正滿足了這一需求,。科研人員無需花費(fèi)大量時(shí)間和成本制作掩模，只需將設(shè)計(jì)圖案導(dǎo)入系統(tǒng),，就能迅速開始光刻作業(yè),。 在生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域，研究人員利用這一特性,，快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片,，用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學(xué)研究中,，可根據(jù)不同材料特性,，定制獨(dú)特的圖案結(jié)構(gòu)，探索材料的新性能,。這種靈活的圖案輸入方式,，remarkable縮短了科研周期，加速科研成果的產(chǎn)出,，讓科研人員能夠?qū)⒏�多精力投入到�?chuàng)新研究中,。跨學(xué)科應(yīng)用：覆蓋微機(jī)械,、光子晶體,、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域。四川德國(guó)BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

在tumor轉(zhuǎn)移機(jī)制研究中,，某tumor研究中心利用 Polos 光刻機(jī)構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片,。通過無掩模激光光刻技術(shù)，在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu),，其中血管直徑可精確控制在 10-50μm,。實(shí)驗(yàn)顯示，該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,，tumor細(xì)胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,，且化療藥物滲透效率降低 40%，與臨床數(shù)據(jù)高度吻合,。該團(tuán)隊(duì)通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)整通道曲率和細(xì)胞外基質(zhì)密度,，成功復(fù)現(xiàn)了tumor細(xì)胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化（EMT）過程，相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》,，并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺(tái)開發(fā),。四川德國(guó)BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米成本效益：?jiǎn)未纹毓獬杀镜陀趥鹘y(tǒng)光刻 1/3，小批量研發(fā)更經(jīng)濟(jì),。

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

微流體芯片制造的core工具,！Polos光刻機(jī)可加工80 m直徑的開環(huán)諧振器和2 m叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe的2PP工藝）,，用戶可擴(kuò)展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機(jī)器人及光學(xué)超材料提供多維度解決方案37,。其與Lab14集團(tuán)的協(xié)同合作,，進(jìn)一步推動(dòng)工業(yè)級(jí)光學(xué)封裝技術(shù)創(chuàng)新3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。固態(tài)電池：*金屬界面阻抗降至 50Ωcm,，電池循環(huán)壽命提升 3 倍,。

一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上，使用德國(guó) Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),，以促進(jìn)細(xì)胞的生長(zhǎng)和組織的修復(fù)。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計(jì)的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案,。通過該光刻機(jī)制造的支架，在動(dòng)物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長(zhǎng)引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比,，使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架,，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合：德國(guó)精密制造背書,，與Lab14集團(tuán)共推光通信芯片封裝技術(shù)。四川德國(guó)BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

快速自動(dòng)對(duì)焦：閉環(huán)對(duì)焦系統(tǒng)1秒完成,，多層半自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)提升實(shí)驗(yàn)效率,。四川德國(guó)BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

某智能機(jī)器人實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)制造了磁控微納機(jī)器人。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),，機(jī)器人在旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)下的推進(jìn)速度達(dá) 50μm/s,，轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運(yùn)動(dòng)軌跡,，該機(jī)器人在微流控芯片中成功實(shí)現(xiàn)了單個(gè)紅細(xì)胞的捕獲與轉(zhuǎn)運(yùn),，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計(jì)（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細(xì)胞表面進(jìn)行納米級(jí)手術(shù),，相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。四川德國(guó)BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米