依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應鏈,，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內(nèi)前段企業(yè),。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體,，實現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,，附著力 > 3N/cm,，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,，產(chǎn)品覆蓋智能手機,、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸,。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,，推動 LCD 面板材料國產(chǎn)化進程,。
產(chǎn)業(yè)鏈配套：原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展。河南納米壓印光刻膠品牌
主要應用場景
印刷電路板（PCB）：
通孔/線路加工：負性膠厚度可達20-50μm,，耐堿性蝕刻液（如氯化鐵,、堿性氯化銅），適合制作大尺寸線路（線寬/線距≥50μm）,，如雙面板,、多層板的外層電路。
阻焊層：作為絕緣保護層,，覆蓋非焊盤區(qū)域,，需厚膠（50-100μm）和高耐焊接溫度（260℃以上），負性膠因工藝簡單,、成本低而廣泛應用,。
微機電系統(tǒng)（MEMS）：
深硅蝕刻（DRIE）：負性膠作為蝕刻掩膜，厚度可達100μm以上,，耐SF等強腐蝕性氣體,，用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)（深寬比＞20:1）。
模具制造：在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,，利用負性膠的厚膠成型能力,。
平板顯示（LCD）：
彩色濾光片（CF）基板預處理：在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層，耐濕法蝕刻（如HF溶液）,，確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布,。
功率半導體與分立器件：
IGBT、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻：負性膠用于制作較寬的隔離溝槽（寬度＞10μm）,，耐高濃度酸堿蝕刻,，降低工藝成本。
濟南PCB光刻膠品牌光刻膠廠家推薦吉田半導體,。
吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料
YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性,。產(chǎn)品已通過中芯*量產(chǎn)驗證，良率達 98% 以上,，生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標準,，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,，為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐,。
光刻膠系列：
厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年,；
水油光刻膠 SR - 3308,，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠,，分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應,，重量 100g；
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好；
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,，耐強酸強堿,，耐高溫達 250°C，長期可靠性高,，粘接強度高,，重量 100g；
LCD 正性光刻膠 YK - 200,，具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,，重量 100g,；
半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g,；
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L。
松山湖半導體材料廠家吉田,，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!
技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細分領(lǐng)域突破
全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,，實現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器,、光學器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達PPT級,。
細分領(lǐng)域技術(shù)先進
納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領(lǐng)域（如量子點顯示,、生物芯片）實現(xiàn)技術(shù)突破，分辨率達3μm,，填補國內(nèi)空缺,。
LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求，開發(fā)出高感光度,、高對比度的光刻膠,，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)。
研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導體光刻膠,，計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā)。
吉田半導體實現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,，為半導體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐,。濟南PCB光刻膠品牌
光刻膠的關(guān)鍵應用領(lǐng)域。河南納米壓印光刻膠品牌
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。
厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準,，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。
負性光刻膠
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SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應,，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工,、半導體制造等領(lǐng)域,。
正性光刻膠
河南納米壓印光刻膠品牌
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LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果,。
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半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導體制造工藝,，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
