細胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細胞類型設(shè)計表面微結(jié)構(gòu)，傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,，難以滿足個性化需求,。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導(dǎo)入，某干細胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細胞三維培養(yǎng)支架的定制加工,。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,，適配不同分化階段的細胞黏附需求。實驗顯示,，使用該支架的神經(jīng)細胞軸突生長速度提升 30%,，為神經(jīng)再生機制研究提供了高效工具，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實現(xiàn)量產(chǎn),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。無掩模技術(shù)優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模,，圖案設(shè)計實時調(diào)整,，研發(fā)成本直降 70%。四川BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時,，某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備,。其無掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接，血管內(nèi)皮細胞貼壁率達 95%,，較傳統(tǒng)光刻提升 30%,。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數(shù)據(jù)，芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,，使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天,。該技術(shù)為藥物肝毒性測試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面,。湖北POLOSBEAM-XL光刻機光源波長405微米科研成果轉(zhuǎn)化：中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列，研究細胞浸潤機制,。

無掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升,！Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù)，用戶可通過軟件直接輸入任意圖案,，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時間,。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 m）支持5英寸晶圓的高精度加工，特別適合實驗室快速原型開發(fā),。閉環(huán)自動對焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動多層對準功能,，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

在微流體領(lǐng)域,，Polos系列光刻機通過無掩模技術(shù)實現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細胞球浸潤行為,，為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計策略10。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn),，推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā),。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢,。高頻元件驗證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破,。

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。無掩模技術(shù)優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模,，圖案實時調(diào)整，研發(fā)成本降低 70%,，小批量生產(chǎn)經(jīng)濟性突出,。四川BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新：與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布，提升制造精度,。四川BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

德國 Polos 光刻機系列以其緊湊的設(shè)計,，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實驗室，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機構(gòu)來說,，設(shè)備的空間占用是重要考量因素,。Polos 光刻機占用空間小的特點，使其能夠輕松融入各類實驗室環(huán)境,。 盡管體積小巧,，但它的性能卻毫不遜色。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻,。在小型實驗室中，科研人員使用 Polos 光刻機,，在微流體,、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究，成功取得多項成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),，Polos 光刻機證明了小空間也能蘊藏大能量，為科研創(chuàng)新提供有力支持,。四川BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米