在航空航天科研中,，某科研團(tuán)隊(duì)致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)和偵察的微型飛行器,。其中，制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵,。德國(guó) Polos 光刻機(jī)憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，助力團(tuán)隊(duì)制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪,、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu),。例如，利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪,，齒距精度達(dá)到納米級(jí)別,，極大提高了飛行器動(dòng)力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性�,；�于��,，科研團(tuán)隊(duì)成功試飛了一款新型微型飛行器，其續(xù)航時(shí)間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品,，為未來(lái)微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ),。亞微米級(jí)精度：0.8 mmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造,。江蘇德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

在微流體研究領(lǐng)域,，德國(guó) Polos 光刻機(jī)系列憑借獨(dú)特優(yōu)勢(shì)脫穎而出。其無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，打破傳統(tǒng)光刻的局限,，無(wú)需掩模就能實(shí)現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時(shí),，可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求自由設(shè)計(jì),，快速完成從圖紙到實(shí)體的轉(zhuǎn)化,。以藥物傳輸研究為例，利用 Polos 光刻機(jī),，能制造出尺寸precise,、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道，模擬人體環(huán)境,，讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動(dòng)，much提升藥物傳輸效率研究的準(zhǔn)確性,。同時(shí),，在細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)中，該光刻機(jī)制作的微流體芯片,，為細(xì)胞提供穩(wěn)定且適宜的生長(zhǎng)環(huán)境,，助力細(xì)胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機(jī),，正推動(dòng)微流體研究不斷向前,。黑龍江德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸微型傳感器量產(chǎn)：80 m開環(huán)諧振器加工能力，推動(dòng)工業(yè)級(jí)MEMS傳感器升級(jí),。

某材料實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)的亞微米級(jí)圖案化能力,，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,，使材料表面接觸角達(dá) 165°,，滾動(dòng)角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后,，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍,。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實(shí)現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合，被用于微流控芯片的液滴定向輸運(yùn),，液滴驅(qū)動(dòng)電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm，平臺(tái)雙向重復(fù)性精度0.1 m,，滿足工業(yè)級(jí)需求,。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，支持實(shí)時(shí)觀測(cè)與多層對(duì)準(zhǔn),。配套的BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化了復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程,，內(nèi)置高性能筆記本電腦實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理，成為微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具,。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì),。柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路,，推動(dòng)5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。

某材料科學(xué)研究中心在探索新型納米復(fù)合材料的性能時(shí),，需要在材料表面構(gòu)建特殊的納米圖案,。德國(guó) Polos 光刻機(jī)成為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的得力工具。研究人員利用其無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結(jié)構(gòu),。經(jīng)過(guò)測(cè)試發(fā)現(xiàn)，帶有特定圖案的納米復(fù)合材料,，其電學(xué),、光學(xué)和力學(xué)性能發(fā)生了remarkable改變。例如,，一種原本光學(xué)性能普通的納米材料,，在經(jīng)過(guò) Polos 光刻機(jī)處理后，對(duì)特定波長(zhǎng)光的吸收率提高了 30%,，為開發(fā)新型光電器件和光學(xué)傳感器提供了新的材料選擇和設(shè)計(jì)思路 ,。實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)：120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡，實(shí)現(xiàn)加工過(guò)程動(dòng)態(tài)監(jiān)控,。重慶德國(guó)BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

未來(lái)技術(shù)儲(chǔ)備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,，lead微納制造前沿。江蘇德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

無(wú)掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升,！Polos-BESM系列采用無(wú)掩模激光直寫技術(shù),，用戶可通過(guò)軟件直接輸入任意圖案，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時(shí)間,。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 m）支持5英寸晶圓的高精度加工,，特別適合實(shí)驗(yàn)室快速原型開發(fā),。閉環(huán)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動(dòng)多層對(duì)準(zhǔn)功能，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。江蘇德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米