吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001：國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí)
JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,，成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,，分辨率 1.5μm,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn),。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,，幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,，加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級(jí)，推動(dòng) PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進(jìn)程,。
納米級(jí)圖案化的主要工具。西安水性光刻膠廠家
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產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良,，抗潮耐水性好,，耐印率高；固含量高,，流平性好,，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,，網(wǎng)版平滑,、無白點(diǎn)、無沙眼,、亮度高,；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用,；解像性,、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,；感光度高,，曝光時(shí)間短，曝光寬容度大,，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,，提高工作效率 。
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應(yīng)用范圍：適用于塑料,、皮革,、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）,、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細(xì)印刷需求，制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,，用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。
杭州LED光刻膠多少錢光刻膠新興及擴(kuò)展應(yīng)用。
納米電子器件制造
半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中,，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極,、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）,。
二維材料器件：在石墨烯,、二硫化鉬等二維材料表面，通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,，構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器,。
納米光子學(xué)與超材料
光子晶體與波導(dǎo)：利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)（如光子晶體光纖、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭）,，調(diào)控光的傳播路徑,，用于集成光路或量子光學(xué)器件。
超材料設(shè)計(jì)：在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案（如太赫茲超材料）,，實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的超常調(diào)控（吸收,、偏振轉(zhuǎn)換）。
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),，構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,，發(fā)揮企業(yè)作用，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,，推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈,。公司通過技術(shù)輸出與資源共享，幫助本地企業(yè)提升工藝水平,，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。例如，與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,，極限分辨率 120nm,，工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品，已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,，為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動(dòng)能,。半導(dǎo)體材料選吉田，歐盟認(rèn)證,，支持定制化解決方案!
吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,，國產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展
自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗(yàn)證，吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國內(nèi)光刻膠空白。
吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠,，分辨率達(dá) 90nm,，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方,，突破日本企業(yè)對(duì) ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%,，蝕刻選擇比達(dá) 4:1,，性能對(duì)標(biāo)日本信越的 ArF 系列。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進(jìn)程,，為國內(nèi)晶圓廠提供高性價(jià)比解決方案,。
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吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。西安水性光刻膠廠家
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。
UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào),，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如半導(dǎo)體器件制造,。
其他光刻膠
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水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā),、可定制,、使用、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，重量 1L。
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水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠,，重量 5L,，具備上述通用優(yōu)勢，應(yīng)用場景。
西安水性光刻膠廠家
