雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述,，但并非每個(gè)實(shí)施方式*包含一個(gè)**的技術(shù)方案,，說明書的這種敘述方式**是為清楚起見,，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式,。蒸發(fā)鍍膜機(jī)離子鍍膜機(jī)車燈鍍膜機(jī)寶來利真空BLL多弧離子PVD鍍膜設(shè)備CCZK-SFL連續(xù)磁控鍍膜生產(chǎn)線蒸發(fā)鍍膜機(jī)離子鍍膜機(jī)車燈鍍膜機(jī)汽車燈具，高等燈具反光碗的鍍膜,，通過蒸鍍，硅油保護(hù)膜一次性完成,，具有寶來利真空的反射率和耐腐蝕性能,。丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司多弧離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜技術(shù)，將各種氣體寶來利真空BLL系列磁控濺射鍍膜流水線可適用于幕墻玻璃,，鋁鏡,，反光鏡生產(chǎn)。寶來利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,，膜層均勻耐磨,，衛(wèi)浴產(chǎn)品鍍膜，有需要可以咨詢,！浙江手機(jī)屏真空鍍膜機(jī)哪家便宜

結(jié)合圖1和圖2所示,，頂蓋22遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn)224；第二連接套2內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn)123,，靜觸點(diǎn)123位于寶來利真空凹槽21與抽氣管3之間,；動(dòng)觸點(diǎn)224與外部電源電性連接；靜觸點(diǎn)123與氣缸53電性連接,；利用動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123的接觸來控制氣缸53的運(yùn)行,，防止氣缸53長時(shí)間運(yùn)行，節(jié)約能源,。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,，結(jié)合圖1所示，鍍膜機(jī)1靠近出氣管11的側(cè)壁上設(shè)有開關(guān)13及換向器,；開關(guān)13分別與換向器及真空泵4電性連接,；換向器與電磁鐵122電性連接,；利用換向器改變電磁鐵122電流的方向來改變磁極，進(jìn)行頂蓋22的打開與閉合,。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,，結(jié)合圖4所示，頂蓋22側(cè)壁上設(shè)有凹孔225,；便于在抽氣時(shí)氣體的排出,。應(yīng)當(dāng)理解的是，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說,，可以根據(jù)上述說明加以改進(jìn)或變換,，而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。浙江工具真空鍍膜機(jī)推薦貨源品質(zhì)真空鍍膜機(jī),，請(qǐng)選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,，有需要可以來咨詢！

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真空鍍膜設(shè)備在操作過程中,，膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當(dāng),、磁場(chǎng)設(shè)計(jì)不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內(nèi)容如下：距離問題：靶材與待鍍基片之間的距離若未優(yōu)化,，會(huì)影響濺射的均勻性,。磁場(chǎng)設(shè)計(jì)問題：磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場(chǎng)的設(shè)計(jì)，如果磁場(chǎng)分布和強(qiáng)度不均,，則會(huì)導(dǎo)致膜層均勻度不佳,。氣體引入問題：如乙炔在反應(yīng)濺射過程中引入不均，也會(huì)導(dǎo)致沉積膜層的質(zhì)量在基片上存在差異,。為了解決這些問題,，可以考慮以下方案：調(diào)整靶材與基片間的距離：確保兩者間距離適宜，以便改善濺射的均勻性,。優(yōu)化磁場(chǎng)設(shè)計(jì)：通過改善和優(yōu)化磁場(chǎng)的分布及強(qiáng)度,，提高靶材表面離子轟擊的均勻性，進(jìn)而提升膜層均勻度,。旋轉(zhuǎn)基片或靶材：在濺射過程中，改變它們的相對(duì)位置和角度,，使得材料能夠更均勻地分布在基片上,。品質(zhì)真空鍍膜機(jī)膜層致密，請(qǐng)選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,，有需要可以來咨詢考察,！

本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備,。背景技術(shù)：目前,，真空設(shè)備，例如,，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來利相沉積）設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中,，如光伏電池,、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室,，傳動(dòng)部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi),，這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉，容易造成工藝環(huán)境污染,。另外,，設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,，容易造成工藝所需原料的浪費(fèi),，同時(shí)，還會(huì)造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動(dòng)大,，不可控因素較多,，從而影響工藝過程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,，以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染,、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問題,。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備,。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：一種真空反應(yīng)腔室,，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體,。寶來利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨,，裝飾鍍膜,，有需要可以咨詢！1200真空鍍膜機(jī)廠家

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進(jìn)一步地,，所述第二底板內(nèi)和所述第二側(cè)壁內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管的通道，所述溫控管埋設(shè)于所述通道內(nèi),。一種真空鍍膜設(shè)備,，包括機(jī)械模塊部件、工藝模塊部件和本實(shí)用新型所述的真空反應(yīng)腔室,，所述工藝模塊部件位于所述內(nèi)反應(yīng)腔內(nèi),，部分所述機(jī)械模塊部件位于所述外腔體內(nèi)。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下***：本實(shí)用新型提供的真空反應(yīng)腔室,，包括用于提供真空環(huán)境的外腔體,，以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔,；并且，內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門,，工件自外腔體經(jīng)自動(dòng)門進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中,。其中，外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔為嵌套結(jié)構(gòu),，其內(nèi)反應(yīng)腔位于外腔室內(nèi),。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室,，其中外腔體用于提供真空環(huán)境,，而工藝反應(yīng)則在內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu),，可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔中,，而與工藝反應(yīng)無直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后,，位于外腔體中的工件再經(jīng)自動(dòng)門進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行工藝反應(yīng),，可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域,，避免工藝污染,，提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室,，作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔相對(duì)較小,。浙江手機(jī)屏真空鍍膜機(jī)哪家便宜