優(yōu)化鍍膜過(guò)程的溫度,、壓力和時(shí)間控制：溫度對(duì)于材料的蒸發(fā)率和沉積速率有明顯影響，精確的溫度控制可以優(yōu)化膜層的均勻性和附著力,。在真空環(huán)境中,，控制適當(dāng)?shù)膲毫κ谴_保蒸發(fā)材料以適當(dāng)速率沉積的關(guān)鍵。改進(jìn)真空真空鍍膜機(jī)的鍍膜速度：可以通過(guò)提高真空度,、使用高功率蒸發(fā)源,、優(yōu)化蒸發(fā)工藝、采用多個(gè)蒸發(fā)源,、使用新型材料和增加基底加熱等方式來(lái)提升鍍膜速度,。優(yōu)化設(shè)備結(jié)構(gòu)和自動(dòng)化控制：對(duì)真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)，解決影響光學(xué)薄膜質(zhì)量和超多層精密光學(xué)薄膜鍍制的問(wèn)題,，提高薄膜的監(jiān)控精度,，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的自動(dòng)控制，提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本,。寶來(lái)利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,，膜層均勻耐磨，工藝品鍍膜,，有需要可以咨詢,！光學(xué)真空鍍膜設(shè)備廠家直銷(xiāo)

所描述的實(shí)施例寶來(lái)利寶來(lái)利是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例,?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍,。請(qǐng)參閱圖1-5，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,，包括腔體1,、基板2和坩堝3，腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器,，坩堝3放置在加熱板14的頂部,，腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機(jī)21，并且抽風(fēng)機(jī)21進(jìn)風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22,，風(fēng)管22遠(yuǎn)離抽風(fēng)機(jī)21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,，腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī)16，電機(jī)16通過(guò)導(dǎo)線與控制開(kāi)關(guān)及外部電源連接,，并且電機(jī)16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17,，雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動(dòng)塊18，兩個(gè)活動(dòng)塊18的底部均固定連接有限位板19,，兩個(gè)限位板19相對(duì)的一側(cè)均開(kāi)設(shè)有與基板2相適配的限位槽,，并且兩個(gè)活動(dòng)塊18的頂部均通過(guò)第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動(dòng)連接，雙向螺紋桿17遠(yuǎn)離電機(jī)16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,，雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過(guò)軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接,，腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。 900真空鍍膜設(shè)備寶來(lái)利模具超硬真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,，膜層均勻耐磨,，細(xì)膩有光澤，有需要可以來(lái)咨詢,！

本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,，尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：目前,，真空設(shè)備,，例如,，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition,，物寶來(lái)利相沉積）設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中,，如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等,。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備,、pvd設(shè)備)的寶來(lái)利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室，傳動(dòng)部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi),，這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉，容易造成工藝環(huán)境污染,。另外,，設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,，容易造成工藝所需原料的浪費(fèi),，同時(shí)，還會(huì)造成工藝反應(yīng)過(guò)程中溫度波動(dòng)大,，不可控因素較多,，從而影響工藝過(guò)程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的寶來(lái)利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,，以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染,、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問(wèn)題,。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備,。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：一種真空反應(yīng)腔室,，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體,。

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丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司成立于2002年,，是一家專(zhuān)門(mén)從事各種真空應(yīng)用設(shè)備制造,，集研發(fā)，生產(chǎn)和銷(xiāo)售于一體的民營(yíng)高科技企業(yè),。公司目前擁有在職員工100余人,，其中高.中級(jí)以上技術(shù)職稱(chēng)人員50余人，公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)真空行業(yè)寶來(lái)利真空寶來(lái)利,，教授和高級(jí)工程師,，專(zhuān)門(mén)指導(dǎo)和負(fù)責(zé)公司新產(chǎn)品的研發(fā)與設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)新概念,，新技術(shù)應(yīng)用鍍膜設(shè)備,，確保公司真空設(shè)備產(chǎn)品高水平。公司擁有生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)豐富,，包括機(jī)加工,，鉗工，鈑金,，焊接,，電氣，真空設(shè)備安裝調(diào)試和真空鍍膜工藝等齊全的技術(shù)團(tuán)隊(duì),，保證設(shè)備生產(chǎn)品質(zhì),，高效率。公司還擁有一支的售后服務(wù)隊(duì)伍,，解決設(shè)備在使用過(guò)程中遇到的各類(lèi)疑難問(wèn)題,，免除客戶的后顧之憂。多年以來(lái),，本公司所生產(chǎn)的真空應(yīng)用設(shè)備和工藝交鑰匙工程,，為多家鍍膜生產(chǎn)企業(yè)的發(fā)展提供了有力的技術(shù)支持，得到了廣大客戶的高度信譽(yù),。特別近幾年來(lái),，隨著真空鍍膜技術(shù)的進(jìn)步，公司重點(diǎn)發(fā)展連續(xù)式磁控鍍膜生產(chǎn)線（）及離子鍍膜技術(shù),，包括非平衡磁控,，中頻磁控濺射，電弧蒸發(fā)源,，離子源輔助鍍膜和多種技術(shù)功能的組合,，同時(shí)結(jié)合公司多年真空應(yīng)用技術(shù)的積累,，設(shè)備設(shè)計(jì)與加工工藝精益求精，開(kāi)發(fā)新一帶的工藝解決方案和鍍膜設(shè)備,，鍍膜水平得到極大的進(jìn)步,，至今。 磁控濺射原理鍍制,，用于在已預(yù)處理好的玻璃,、陶瓷等制品表面PVD鍍反映膜，從而獲得光亮,、美觀,。半透光真空鍍膜設(shè)備定制

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因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),，降低原料的使用成本，提高原料的利用率,。同時(shí),，由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,，進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說(shuō)明此處的附圖被并入說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分,，示出了符合本實(shí)用新型的實(shí)施例,，并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,，顯而易見(jiàn)地，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言,，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖,；圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖,；圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖標(biāo)：10-外腔體,；11-寶來(lái)利真空底板,；12-寶來(lái)利真空側(cè)壁；13-傳送裝置,；20-內(nèi)反應(yīng)腔,；21-第二底板,；22-第二側(cè)壁；23-自動(dòng)門(mén),；30-密封蓋板,；40-溫控管；41-恒溫控制器,。具體實(shí)施方式為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的,、技術(shù)方案和***更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚,、完整地描述，顯然,。 光學(xué)真空鍍膜設(shè)備廠家直銷(xiāo)