因此可以有效減少工藝原料的浪費,，降低原料的使用成本,，提高原料的利用率,。同時，由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,，進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說明此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分,，示出了符合本實用新型的實施例,，并與說明書一起用于解釋本實用新型的原理。為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,，顯而易見地,，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言,，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖,。圖1為本實用新型一種實施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖,；圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖,。圖標(biāo)：10-外腔體,；11-寶來利真空底板；12-寶來利真空側(cè)壁,；13-傳送裝置,；20-內(nèi)反應(yīng)腔；21-第二底板,；22-第二側(cè)壁,；23-自動門；30-密封蓋板,；40-溫控管,；41-恒溫控制器。具體實施方式為使本實用新型實施例的目的,、技術(shù)方案和***更加清楚,，下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚,、完整地描述,，顯然。 品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備,，請選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,，有需要可以來考察！浙江瓶蓋真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)貨直發(fā)

如圖3所示,，所述溫控裝置包括溫控管40,，所述溫控管40連接位于外腔體10外的恒溫控制器41。溫控管40的引入口及引出口與外部的恒溫控制器41連接,，恒溫控制器41可用于恒溫制冷也可用于恒溫加熱,，保證內(nèi)反應(yīng)腔20中的溫度可以持續(xù)恒定,，從而使工藝反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的工藝環(huán)境溫度更穩(wěn)定。經(jīng)過在真空鍍膜設(shè)備上的實際應(yīng)用驗證,，該真空腔體對于工藝成膜質(zhì)量及鍍膜均勻性均有十分有效的改善和提升,。其中，溫控管40包括加熱管和/或冷卻管,。一般情況下,，在工藝反應(yīng)過程中，通常需要升溫以完成相關(guān)的工藝反應(yīng),，因此,，溫控管40包括必要的加熱管，而冷卻管可以根據(jù)實際的工藝需要選選擇性地添加即可,。例如,，若在工藝反應(yīng)過程中，需要進(jìn)行快速降溫,，此時可以設(shè)置冷卻管,。所述加熱管非限制性地例如可以為電加熱管、水加熱管或油加熱管,。冷卻管例如可以為水冷卻管或油冷卻管,。為了增加溫控效果，第二側(cè)壁22和第二底板21處均設(shè)有溫控管40,。其中,，所述溫控管40纏繞于所述第二側(cè)壁22的外部，且所述溫控管40鋪設(shè)于所述第二底板21的底部,。除上述纏繞方式外,，還可以用埋設(shè)的方式鋪設(shè)加熱管，例如,，所述第二底板21內(nèi)和所述第二側(cè)壁22內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管40的通道,，所述溫控管40埋設(shè)于所述通道內(nèi)。 浙江風(fēng)鏡真空鍍膜設(shè)備推薦貨源品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備膜層亮度高,，請選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,，有需要可以來咨詢考察！

其中X射線固化技術(shù)目前還處在實驗室階段,，實際生產(chǎn)中還沒有得到應(yīng)用,。目前應(yīng)用**廣的是紫外光（UV）固化涂料。它是以光引發(fā)聚合,，依靠紫外光的照射,，使涂料產(chǎn)生自由基，引發(fā)材料中的不飽和雙鍵等官能團(tuán)在很短暫的時間內(nèi)產(chǎn)生聚合反應(yīng)，從而形成交聯(lián)式三維網(wǎng)狀高聚物,，達(dá)到快速固化的目的,。由于紫外光固化涂料具有固化時間短，生產(chǎn)效率高,，低能耗,，無溶劑，污染小等諸多***,，因此在**工作得到越來越重視的***,，得到了越來越***的應(yīng)用。紫外光（UV）固化涂料用樹脂以聚氨酯丙烯酸酯,、環(huán)氧丙烯酸酯,、聚酯丙烯酸酯等為主。目前,，用于電子,、汽車燈反光罩等**產(chǎn)品的鍍膜涂料,，其樹脂主要來自日本合成,、沙多瑪、氰特化工等國外產(chǎn)品,；采用國產(chǎn)樹脂生產(chǎn)的真空鍍膜涂料,，目前主要應(yīng)用于包裝品、飾品,、禮品等中低端產(chǎn)品,。

電磁鐵122頂出磁片223，頂蓋22離開出氣管11口,，空氣及粉塵從出氣管11排出,，當(dāng)頂蓋22的動觸點224與靜觸點123接觸時，氣缸53通電,，伸出伸縮軸,，利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出，粉塵遇水沉降落入沉降管51底部,，鍍膜機(jī)1內(nèi)達(dá)到相應(yīng)的真空度時,，反方向按下開關(guān)13，電磁鐵122在換向器的作用下電流改變,，磁極改變,，產(chǎn)生與磁片223相反的磁極，電磁鐵122與磁片223相吸,，此時真空泵4斷電,，動、靜觸點斷開，氣缸53斷電,，頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上,。上述實施例中，開關(guān)13為雙向開關(guān),，往一方向按下時,，真空泵4與電磁鐵122均通電，往另一方向按下時,，真空泵4斷電,，電磁鐵122在換向器的作用下電流方向發(fā)生改變，產(chǎn)生相反的磁極,。在進(jìn)一步的實施例中,，結(jié)合圖2可得，寶來利真空連接套12遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有寶來利真空安裝位121,；寶來利真空安裝位121位于出氣管11兩側(cè),；寶來利真空安裝位121內(nèi)固定有電磁鐵122；頂蓋22靠近鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有第二安裝位222,；第二安裝位222與寶來利真空安裝位121位置相對應(yīng),；第二安裝位222內(nèi)固定有磁片223；電磁鐵122與磁片223分別通過膠水固定在寶來利真空安裝位121以及第二安裝位222中,；利用磁鐵“同極相斥,、異極相吸”的原理，控制頂蓋22的關(guān)閉和打開,。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,，膜層均勻耐磨，鎳鉻,，有需要可以咨詢,！

避免工藝污染，提供工藝質(zhì)量,。由于設(shè)置雙腔室,，作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔20相對較小，因此可以有效減少工藝原料的浪費,，降低原料的使用成本,，提高原料的利用率。同時,，由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,，進(jìn)而提高工藝質(zhì)量,。需要說明的是,，內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔體10內(nèi)，但內(nèi)反應(yīng)腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài),，并非完全隔絕,，當(dāng)對外腔體10進(jìn)行抽真空處理時，內(nèi)反應(yīng)腔20內(nèi)也同時進(jìn)行抽真空操作,。外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20處于相互連通的狀態(tài),，只是在外腔體10內(nèi)劃分出了一個立體空間以進(jìn)行工藝反應(yīng)。本實施方式中,，參照圖2,，所述外腔體10包括寶來利真空底板11和沿所述寶來利真空底板11周向設(shè)置的寶來利真空側(cè)壁12；所述內(nèi)反應(yīng)腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設(shè)置的第二側(cè)壁22,；所述寶來利真空底板11與所述第二底板21相互分離設(shè)置,，所述寶來利真空側(cè)壁12與所述第二側(cè)壁22相互分離設(shè)置；寶來利真空側(cè)壁12與蓋設(shè)于所述寶來利真空側(cè)壁12上的密封蓋板30密閉連接,，所述第二側(cè)壁22與所述密封蓋板30相互分離設(shè)置,。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于用第二底板21和第二側(cè)壁22在外腔體10中分割出一個更小的空間,。 寶來利晶圓真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤,，有需要可以來咨詢,！浙江濾光片真空鍍膜設(shè)備廠商

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本實用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,，尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：目前,，真空設(shè)備,，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,，等離子體增強化學(xué)氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition,，物寶來利相沉積）設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中，如光伏電池,、半導(dǎo)體器件等等,。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個反應(yīng)腔室,，傳動部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個反應(yīng)腔室內(nèi),，這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉,，容易造成工藝環(huán)境污染。另外,，設(shè)置單個反應(yīng)腔室時,，由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大，容易造成工藝所需原料的浪費,，同時,，還會造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動大，不可控因素較多,，從而影響工藝過程,。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室，以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染,、工藝原料易被浪費,、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備,。為達(dá)到上述目的,，本實用新型采用的技術(shù)方案如下：一種真空反應(yīng)腔室，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體,。 浙江瓶蓋真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)貨直發(fā)