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屏蔽閘閥手動閥

來源: 發(fā)布時間:2024-05-15

微泰主要產(chǎn)品有1,、-手動鎖定閥:操作鎖定按鈕關(guān)閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現(xiàn)象的源頭:2,、特殊閥門:全金屬配件構(gòu)成,由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成,;3,、三位閥:半開功能的壓力控制閥。氣動閘閥:?產(chǎn)品范圍:1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):25萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒,;手動(鎖定)閘閥?產(chǎn)品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):25萬次,;專門用閘閥:產(chǎn)品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):25萬次,響應(yīng)時間:0.2秒客戶指定的法蘭,,可安裝角閥,;三位閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):20萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,,可替代HVA閘閥,、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。閘閥(gate valve)是一個啟閉件閘板,閘板的運動方向與流體方向相垂直,,閘閥只能作全開和全關(guān),。屏蔽閘閥手動閥

閘閥

微泰,蝶閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,。可替代VAT閘閥,。微泰蝶閥其特點是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護? 應(yīng)用:半導(dǎo)體和工業(yè)過程的壓力控制,。蝶閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(內(nèi)徑):DN40、DN50,、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通,、閥門密封:FKM(VITON)、執(zhí)行器:步進電機,、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1200 mbar ,、開啟壓差:≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar,、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒,、維護前可用次數(shù):250,000次,、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C,、材料:閥體STS304/機制STS304,、安裝位置:任意、接口:RS232,、RS485,、Devicenet、Profibus,、EtherCat,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。電動閘閥Micron真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個行業(yè),包括半導(dǎo)體制造,、研發(fā),、分析類儀器和真空鍍膜,。

屏蔽閘閥手動閥,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門,。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器,,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,,以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況,。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝,。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域,。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制,,用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力,。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā)),、Sputtering(濺射),、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷)、Coating(涂層),、Etch(蝕刻),、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,,可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?/p>

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve,。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu),,通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境,。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程,。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力,??梢栽诟哒婵窄h(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用,??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力,。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā)),、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石),、PECV,、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷),、Coating(涂層),、Etch(蝕刻),、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,,可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥。有中國臺灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁U婵臻l閥由一個滑動門或板組成,,可以移動以阻止或允許通過真空閥體,,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。

屏蔽閘閥手動閥,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,一,、控制系統(tǒng)閘閥??刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用,。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力,。二,、蝶閥,。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過閘板旋轉(zhuǎn)操作,。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境,。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,,保持一致的真空壓力,。三、多定位閘閥,。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門,。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器,,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,,以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況,。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝,。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域,。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制,,用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力,。有中國臺灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,。介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動,易于安裝,。閘閥通道兩側(cè)是對稱的,。CVD閘閥蝶形控制閥

微泰,高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD,。屏蔽閘閥手動閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥,、控制系統(tǒng)插板閥,、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā)),、Sputtering(濺射),、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群,、卷對卷),、Coating(涂層)、Etch(蝕刻),、Diffusion(擴散),、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。屏蔽閘閥手動閥