微泰半導體閘閥具有諸多特點：首先,，它已向中國臺灣的 Micron、UMC,、AKT 等,，新加坡的 Micron、Global Foundries,，馬來西亞的英菲尼亞半導體,，日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,，且品質(zhì)得到認可,，同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產(chǎn)設備的驗證。其次,，該閘閥采用陶瓷球機構,，具有良好的抗沖擊和震動性能,，保證可使用 25 萬次,，且檢修方便，維護成本較低,。它無 Particle 產(chǎn)生,，采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外,，它還具有屏蔽保護功能,，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi),，壽命為半永久性,。其保護環(huán)設計也很獨特，Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固,，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積,。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）,、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）,、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）,、CVD（化學氣相沉積）等設備上,，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥,。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁Ｎ⑻└邏洪l閥的特點是*陶瓷球機構產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵,。鋁閘閥ALUMINUM GATE VALVE

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外,，它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化,，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型,。一,、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成,，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室,。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動，確保完美的腔室壓力維持,。它采用具有LM導向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機構,，保證高耐用性和長壽命。二,、L型轉(zhuǎn)移閥,。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊,，易于維護,。L型轉(zhuǎn)移閥的特點是閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，確保完美的腔室壓力維護,。它的內(nèi)部機構,，包括一個LM導向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營地結(jié)構，保證了高耐用性和長壽命,，同時提供穩(wěn)定和精確的運動,。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，并且對溫度變化非常穩(wěn)定,，確保了較長的使用壽命,。此外，即使長時間使用柵極,，它們產(chǎn)生的顆粒也很少,，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力,。金屬閘閥氣動閥用真空閘閥時,，應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍,、循環(huán)速度和維護要求等因素,。

微泰，定制大型轉(zhuǎn)移閥,，定制大型輸送閥,，?應用：大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉(zhuǎn)移閥,，定制大型輸送閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：氣動,、法蘭尺寸：（內(nèi)徑）80×500、（內(nèi)徑）100×400,、（內(nèi)徑）200×1800,、（內(nèi)徑）650×1050等法蘭類型：定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈,、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec,、操作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1400 mbar ,、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar,、泄漏率：泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒,、維護前可用次數(shù)：10,000 ~ 200,000次,、閥體溫度≤ 200 °,、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C,、材料：材料：不銹鋼304,、A5083~A7075、安裝位置：任意,、操作壓力(N2)：6 ~ 8 bar,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron,、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司,。

微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門,。控制系統(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,，通過控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)閘板的開啟和關閉,。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥,、多定位閘閥,。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,，而多定位閘閥使用氣動控制操作,。一、控制系統(tǒng)閘閥,?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作,，可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導體等高真空工藝應用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二,、蝶閥,。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結(jié)構，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作,。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境,。例如半導體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,，保持一致的真空壓力,。三、多定位閘閥,。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門,。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器，可以在本地和遠程模式下操作,。它還具有緊急關閉功能,，以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，三重防護閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）等設備,。

微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，插板閥，氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸,，ISO,、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）。微泰氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron,、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。為了避免在顆粒敏感應用中產(chǎn)生顆粒,，滑動閘門機構的設計旨在避免閥殼處的摩擦,。金屬閘閥氣動閥

閘閥體內(nèi)設一個與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板，靠這一閘板的升降來開啟或關閉介質(zhì)的通路,。鋁閘閥ALUMINUM GATE VALVE

微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，有氣動多位置閘閥（氣動多定位閘閥、多定位插板閥,、Pneumatic Multi Position）,、氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥，蝶閥,，Butterfly Valve,，步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve）,，鋁閘閥（AL Gate Valve）,，三重防護閘閥，應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上,。有中國臺灣Micron、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來西亞的英菲尼亞半導體,、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,。鋁閘閥ALUMINUM GATE VALVE