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二氧化鋯多晶型分析引言二氧化鋯化學性質(zhì)不活潑,，且具有高熔點,、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數(shù)等獨特的物理化學性質(zhì),，使它成為重要的耐高溫材料,、陶瓷絕緣材料和陶瓷遮光劑。其結(jié)構(gòu)主要有三種晶型：單斜相,、四方相以及立方相,。不同晶體結(jié)構(gòu)對應(yīng)的物理化學性質(zhì)有較大區(qū)別，X射線衍射是區(qū)分二氧化鋯晶型的主要手段之一,。同時利用先進的Rietveld方法可對二氧化鋯多晶型樣品進行快速定量分析,。實例二氧化鋯多晶型定性分析左插圖：微量的二氧化鋯單斜相右插圖：二氧化鋯四方相和立方相區(qū)分明顯

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上,。常規(guī)的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米,，這遠遠大于薄膜的厚度,，導致薄膜的信號會受到襯底的影響（圖1）。另外,，如果衍射簡單較高,，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個樣品的體積,，衍射信號弱,。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上,，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,，同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明：GID需要硬件配置,；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,，不適合單晶外延膜,。該X射線源有6kW的功率，其強度是標準陶瓷射線管5倍,，在線焦點和點焦點應(yīng)用中均具有出色的性能,。

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X射線粉末衍射（XRPD）技術(shù)是重要的材料表征工具之一,。粉末衍射圖中的許多信息，直接源于物相的原子排列,。在D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,，您將能簡單地實施常見的XRPD方法：鑒別晶相和非晶相，并測定樣品純度對多相混合物的晶相和非晶相進行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析（微晶尺寸,、微應(yīng)變,、無序…）熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析指標化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測定和晶體結(jié)構(gòu)精修,，由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物,。無論是新手用戶還是**用戶，都可簡單快捷,、不出錯地對配置進行更改,。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具,、免準直,，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持,。不僅如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前,，在峰位,、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。上海全新XRD衍射儀批發(fā)價

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