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上海應(yīng)力檢測分析

來源: 發(fā)布時間:2023-08-02

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質(zhì)量不論在何種應(yīng)用場合,,它都是您的可選的探測器:高的計數(shù)率,、動態(tài)范圍和能量分辨率,,峰位精度布魯克提供基于NIST標樣剛玉(SRM1976c)整個角度范圍內(nèi)的準直保證,,面向未來的多用途采用了開放式設(shè)計并具有不受約束的模塊化特性的同時,,將用戶友好性,、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致,,這就是布魯克DAVINCI設(shè)計,,布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設(shè)計極大地簡化了D8ADVANCE的操作,,使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型,。為便于用戶使用,該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進行自動切換,。該系統(tǒng)無需人工干預(yù),,即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進行切換,,且無需人工干預(yù),,是在環(huán)境下和非環(huán)境下對包括粉末、塊狀物體,、纖維,、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)在內(nèi)的所有類型的樣品進行分析的理想選擇,。X射線反射法,、掠入射衍射(GID),、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD,、GISAXS,、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析,。上海應(yīng)力檢測分析

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那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度,。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計算石墨化度G[1]:式中:0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,nm,;0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,,nm。為實際石墨試樣(002)晶面間距,,nm,。實例不同石墨的石墨化度為了準確的確定值或(002)峰的峰位,需要在樣品中加入內(nèi)標以校準,。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,,用硅作為內(nèi)標物,加入待測石墨樣品中,,在瑪瑙研缽中混合研磨均勻,。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點,,應(yīng)用于冶金,、化工、航空航天等行業(yè),。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,,進一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎,、焙燒,、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響,,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一,。蘇州倒易空間檢測分析所有樣品臺都是DIFFRAC.DAVINCI概念的組成部分,因此元件及其電動驅(qū)動裝置可在安裝時自動完成識別和配置,。

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RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料,。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上,。常規(guī)的XRD測試,,X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米,這遠遠大于薄膜的厚度,,導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響(圖1),。另外,,如果衍射簡單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,,無法利用整個樣品的體積,,衍射信號弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題,。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程,。這里有兩點說明:GID需要硬件配置,;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜,。

二氧化鋯多晶型分析引言二氧化鋯化學(xué)性質(zhì)不活潑,,且具有高熔點、高電阻率,、高折射率和低熱膨脹系數(shù)等獨特的物理化學(xué)性質(zhì),,使它成為重要的耐高溫材料、陶瓷絕緣材料和陶瓷遮光劑,。其結(jié)構(gòu)主要有三種晶型:單斜相,、四方相以及立方相。不同晶體結(jié)構(gòu)對應(yīng)的物理化學(xué)性質(zhì)有較大區(qū)別,,X射線衍射是區(qū)分二氧化鋯晶型的主要手段之一,。同時利用先進的Rietveld方法可對二氧化鋯多晶型樣品進行快速定量分析。實例二氧化鋯多晶型定性分析左插圖:微量的二氧化鋯單斜相右插圖:二氧化鋯四方相和立方相區(qū)分明顯安裝在標準陶瓷X射線管前面,,可多達6種不同的光束幾何之間自動地進行電動切換,無需認為干預(yù),。

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超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節(jié)點技術(shù)的發(fā)展,,薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm,。在該技術(shù)節(jié)點的a20范圍內(nèi),。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,,XRR是的測量技術(shù),。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,,您就可對所有類型的樣品進行測量:從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶,,都可簡單快捷,、不出錯地對配置進行更改,。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的:配置儀器時,免工具,、免準直,,同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉(SRM1976)的準直保證,。目前,,在峰位、強度和分辨率方面,,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE,。在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,,用Cr輻射進行測量,,對鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進行分析。南京粉煤灰檢測分析

PATHFINDERPlus光學(xué)器件有一個確保測得強度的線性的自動吸收器,,并可在以下之間切換:電動狹縫,,分光晶體。上海應(yīng)力檢測分析

公司技術(shù)團隊由一群儀器儀表領(lǐng)域內(nèi)具有豐富的經(jīng)驗的工程師組成,。業(yè)務(wù)范圍覆蓋至布魯克顯微CT1272,,布魯克XRD衍射儀D8,布魯克顯微CT2214,,布魯克XRD衍射儀D2等,。布魯克顯微CT1272,布魯克XRD衍射儀D8,,布魯克顯微CT2214,,布魯克XRD衍射儀D2可分為通用型和專業(yè)型,通用型儀表主要包括工業(yè)自動控制系統(tǒng)裝置制造,、電工儀器儀表,、繪圖、計算及測量儀器,、實驗分析儀器,、試驗機制造、供應(yīng)用儀器儀表,、其他通用儀器,;其次,我國的新型工業(yè)化進程,,帶動了各個工業(yè)領(lǐng)域?qū)ψ詣踊男枨?,從而也帶來了儀器儀表產(chǎn)業(yè)的繁榮。我國對于各大行業(yè)落實節(jié)能減排指標,、關(guān)停落后產(chǎn)能等一系列強制性措施都在一定程度上擴大了儀器儀表行業(yè)的市場規(guī)模,。政策助力對推動經(jīng)濟發(fā)展,、促進相關(guān)行業(yè)技術(shù)升級、打破國外布魯克顯微CT1272,,布魯克XRD衍射儀D8,,布魯克顯微CT2214,布魯克XRD衍射儀D2壟斷,、提高布魯克顯微CT1272,,布魯克XRD衍射儀D8,布魯克顯微CT2214,,布魯克XRD衍射儀D2國產(chǎn)化率及國產(chǎn)替代等方面具有重要戰(zhàn)略意義,,近年來我國密集出臺涉及儀器儀表行業(yè)及相關(guān)應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)政策,在政策支持下,,我國本土企業(yè)有望突出重圍,。上海應(yīng)力檢測分析

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