XRD檢測(cè)納米二氧化鈦晶粒尺寸引言納米材料的性能往往和其晶粒大小有關(guān),，而X射線衍射是測(cè)定納米材料晶尺寸的有效方法之一,。晶粒尺寸Dhkl(可理解為一個(gè)完整小單晶的大小)可通過(guò)謝樂(lè)公示計(jì)算Dhkl：晶粒尺寸，垂直于晶面hkl方向β:hkl晶面的半高寬（或展寬）θ：hkl晶面的bragg角度λ：入射X光的波長(zhǎng)，一般Cu靶為1.54埃K：常數(shù)（晶粒近似為球形,，K=0.89；其他K=1）ADVANCE采用了開(kāi)放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí),，將用戶友好性,、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì)在DIFFRAC.EVA中,，對(duì)塑料薄膜進(jìn)行WAXS測(cè)量分析,。然后塑料纖維的擇優(yōu)取向便顯而易見(jiàn)了。南京石棉檢測(cè)分析

材料研究樣品臺(tái)緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)能夠精確地移動(dòng)樣品,，因此擴(kuò)展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力,。緊湊型UMC樣品臺(tái)可對(duì)2Kg的樣品進(jìn)行電動(dòng)移動(dòng)：X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm,，可用于分析大型塊狀樣品或多個(gè)小樣品,；緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制，Psi傾斜度在-5°到95°之間,，可用于應(yīng)力,、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外,，它還具有真空多用途通孔,，可通過(guò)小型薄膜樣品架或大型手動(dòng)X-Y樣品臺(tái)，將樣品固定在適當(dāng)位置,。二者均可用于溫控樣品臺(tái),，進(jìn)行非環(huán)境分析。另外,，它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺(tái)卡口安裝系統(tǒng),，輕松更換樣品臺(tái),。上海進(jìn)口XRD衍射儀哪里好LYNXEYE XE-T主要用于0D、1D和2D數(shù)據(jù)采集,，具有始終有效的出色能量鑒別能力,，同時(shí)不會(huì)損失二級(jí)單色器信號(hào)。

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,，不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能,。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量,、殘余應(yīng)力,、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析,。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),，著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描,。由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物,。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡(jiǎn)單快捷,、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具,、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。

由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE,，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物,。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶,，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí),，免工具、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持,。布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前,，在峰位,、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE,。在DIFFRAC.LEPTOS中,，使用sin2psi法，用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,，對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析,。

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來(lái)表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,，nm,；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距，nm,。為實(shí)際石墨試樣（002）晶面間距,，nm。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位,，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn),。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范，用硅作為內(nèi)標(biāo)物,，加入待測(cè)石墨樣品中,，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融,、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),，應(yīng)用于冶金、化工,、航空航天等行業(yè),。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求,。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎,、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料,。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。所有樣品臺(tái)都是DIFFRAC.DAVINCI概念的組成部分,，因此元件及其電動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置可在安裝時(shí)自動(dòng)完成識(shí)別和配置,。湖南點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)量XRD衍射儀配件

使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,，進(jìn)行1D掃描,，來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。南京石棉檢測(cè)分析

二氧化鋯多晶型分析引言二氧化鋯化學(xué)性質(zhì)不活潑,，且具有高熔點(diǎn),、高電阻率,、高折射率和低熱膨脹系數(shù)等獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì)，使它成為重要的耐高溫材料,、陶瓷絕緣材料和陶瓷遮光劑,。其結(jié)構(gòu)主要有三種晶型：?jiǎn)涡毕唷⑺姆较嘁约傲⒎较?。不同晶體結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的物理化學(xué)性質(zhì)有較大區(qū)別,，X射線衍射是區(qū)分二氧化鋯晶型的主要手段之一。同時(shí)利用先進(jìn)的Rietveld方法可對(duì)二氧化鋯多晶型樣品進(jìn)行快速定量分析,。實(shí)例二氧化鋯多晶型定性分析左插圖：微量的二氧化鋯單斜相右插圖：二氧化鋯四方相和立方相區(qū)分明顯南京石棉檢測(cè)分析