腔體按使用功能可分為過渡腔,、傳輸腔和反應(yīng)腔：過渡腔：是設(shè)備中晶圓真空環(huán)境入口,，晶圓從外部運(yùn)輸至設(shè)備入口,，經(jīng)過前端模塊（EFEM）后進(jìn)入過渡腔，方從大氣環(huán)境轉(zhuǎn)換為真空環(huán)境,，后續(xù)再進(jìn)入真空環(huán)境的傳輸腔、反應(yīng)腔進(jìn)行工藝反應(yīng),。過渡腔以鋁合金為主,，技術(shù)相對簡單。傳輸腔：是晶圓在過渡腔和反應(yīng)腔之間進(jìn)行轉(zhuǎn)移的中間平臺,。傳輸腔材料主要是不銹鋼,，腔體需要保證密封性和真空度，同時(shí)由于傳輸腔需要與不同工藝的反應(yīng)腔連接,，也需要采用不同的表面處理工藝來保證潔凈度和耐腐蝕性,。傳輸腔主要由腔體、的真空機(jī)械手,、傳輸腔與反應(yīng)腔連接處的門閥,，以及各種真空密封件組成。反應(yīng)腔：是晶圓加工和生產(chǎn)的工作空間，由于多種工藝氣體會流入反應(yīng)腔內(nèi)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),，其對潔凈度和耐腐蝕性要求較高,，尤其是先進(jìn)制程對于潔凈度要求更高。反應(yīng)腔中包括內(nèi)襯,、勻氣盤等零部件,，對性能要求更為嚴(yán)苛。高質(zhì)量不銹鋼材質(zhì),，耐腐蝕,，保證腔體長期穩(wěn)定運(yùn)行。昆明非標(biāo)真空設(shè)備腔體廠家供應(yīng)

真空腔體材料的幾點(diǎn)要求對真空腔體材料的主要要求如下：1一定的機(jī)械強(qiáng)度2氣密性好,，不應(yīng)是多孔結(jié)構(gòu),，不能有裂縫、小孔以及能造成漏氣的其他缺陷3較低的出氣率和滲透率4在工作溫度和烘烤溫度下的飽和蒸氣壓要足夠低5化學(xué)穩(wěn)定性好,，不易氧化和腐蝕,，不與系統(tǒng)中的工作液體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)6溫度穩(wěn)定性好，在一定溫度范圍內(nèi)能保持真空性能和機(jī)械強(qiáng)度7加工容易,，有較好的焊接性能真空設(shè)備常用殼體材料有兩大類：金屬和玻璃,。金屬的優(yōu)點(diǎn)是：機(jī)械強(qiáng)度好，容易實(shí)現(xiàn)高精度的加工,。玻璃的優(yōu)點(diǎn)是：透明,，便于觀察設(shè)備內(nèi)部情況，電絕緣,，可對內(nèi)部的金屬零件用高頻加熱的方法除氣,，能用高頻火花檢漏，加工方便等,。玻璃的缺點(diǎn)是質(zhì)脆易碎,。太遠(yuǎn)非標(biāo)真空設(shè)備腔體設(shè)計(jì)選擇暢橋真空，享受高質(zhì)量產(chǎn)品與貼心服務(wù),，讓您科研無憂,。

反應(yīng)腔內(nèi)部又有多種機(jī)械件，按不同材料及作用可分為金屬工藝件,、金屬結(jié)構(gòu)件及非金屬機(jī)械件：●金屬工藝件：在設(shè)備中與晶圓直接接觸或直接參與晶圓反應(yīng),。以勻氣盤為例，在薄膜沉積及刻蝕過程中,，特種工藝氣體通過勻氣盤上的小孔后均勻沉積在晶圓表面,，以確保膜層的均勻性，其加工與表面處理為技術(shù)難點(diǎn),。金屬工藝件一般需要經(jīng)過高精密機(jī)械制造和復(fù)雜的表面處理特種工藝過程,，具備高精密,、高潔凈、強(qiáng)耐腐蝕,、耐擊穿電壓等特點(diǎn),，工藝制程復(fù)雜?！窠饘俳Y(jié)構(gòu)件：結(jié)構(gòu)件一般起連接,、支撐和冷卻等作用，對平面度和平行度有較高的要求,，部分結(jié)構(gòu)零部件同樣需要具備高潔凈,、強(qiáng)耐腐蝕能力和耐擊穿電壓等性能。產(chǎn)品包括托盤,、鑄鋼平臺,、流量計(jì)底座、冷卻板等,，不同產(chǎn)品差異較大,，難點(diǎn)包括不銹鋼的高精密加工、超高光潔度制造,、表面處理等技術(shù),。

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件進(jìn)行磨削加工,。該方法具有加工效率高,、質(zhì)量好、加工條件易于控制,、工作環(huán)境良好等優(yōu)點(diǎn),。采用合適的磨料,，表面粗糙度能夠達(dá)到Ra0.1μm,。在塑料模具加工中，所謂的拋光與其他行業(yè)的表面拋光存在較大差異,。嚴(yán)格來講,，模具的拋光應(yīng)稱作鏡面加工，其不只對拋光本身要求極高,，而且對表面平整度,、光滑度以及幾何精確度都設(shè)定了很高的標(biāo)準(zhǔn)。而普通表面拋光通常只需獲得光亮表面即可,。鏡面加工標(biāo)準(zhǔn)分為四級：AO=Ra0.008μm,，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm,，A4=Ra0.063μm,。由于電解拋光、流體拋光等方法在精確控制零件幾何精確度方面存在困難，而化學(xué)拋光,、超聲波拋光,、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又難以滿足要求，所以目前精密模具的鏡面加工仍以機(jī)械拋光為主,。暢橋真空腔體,，經(jīng)過嚴(yán)格測試，性能穩(wěn)定,，值得信賴,。

真空腔體的使用方法介紹：1、將反應(yīng)物倒入襯套內(nèi),，空腔體并保障加料系數(shù)小于0.8,。2、保障釜體下墊片位置正確（凸起面向下）,，然后放入襯套和上墊片,，先擰緊釜蓋混合設(shè)備，然后用螺桿把釜蓋旋扭擰緊為止,。3,、將設(shè)備置于加熱器內(nèi)，按照規(guī)定的升溫速率升溫至所需反應(yīng)溫度,。（小于規(guī)定的使用溫度）,。4、當(dāng)確認(rèn)內(nèi)部溫度低于反應(yīng)物系種溶劑沸點(diǎn)后方能打開釜蓋進(jìn)行后續(xù)操作,。真空腔體待反應(yīng)結(jié)束將其降溫時(shí),，也要嚴(yán)格按照規(guī)定的降溫速率操作，以利于設(shè)備的使用壽命,。5,、確認(rèn)內(nèi)部溫度低于反應(yīng)物系種溶劑沸點(diǎn)后，先用螺桿把釜蓋旋扭松開,，然后將釜蓋打開,。6、真空腔體每次使用后要及時(shí)將其清洗干凈,，以免銹蝕,。釜體、釜蓋線密封處要格外注意清洗干凈,，避免將其碰傷損壞,。暢橋真空注重細(xì)節(jié)，每一個(gè)接口都經(jīng)過精密處理,，確保密封性,。云南半導(dǎo)體真空腔體制造

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真空腔體使用時(shí)的常見故障及措施：真空腔體是可以讓物料在真空狀態(tài)下進(jìn)行相關(guān)物化反應(yīng)的綜合反應(yīng)工具,。具有加熱快,、抗高溫、耐腐蝕,、環(huán)境污染小,、自動(dòng)加熱等幾大特點(diǎn)，是食品,、生物制藥,、精細(xì)化工等行業(yè)常用的反應(yīng)設(shè)備之一，用來完成硫化,、烴化,、氫化、縮合,、聚合等的工藝反應(yīng)過程,。真空腔體使用時(shí)常見的一些故障及解決辦法如下：1、容器內(nèi)有溶劑,，受飽和蒸汽壓限制,。解辦法：放空溶劑，空瓶試,。2,、真空泵能力下降。解決辦：真空泵換油（水）,，清洗檢修,。3、真空皮管,，接頭松動(dòng),，真空表具泄漏。解決辦法：沿真空管路逐段檢查,、排除,。4,、儀器作保壓試驗(yàn),，在沒有任何溶劑的情況下，關(guān)斷所有外部閥門和管路,，保壓一分鐘,，真空表指針應(yīng)不動(dòng)，表示氣密性良好,。解決辦法：（1）重新裝配,，玻璃磨口擦洗干凈,，涂真空硅脂，法蘭口對齊擰緊,；（2）更換失效密封圈,。5、真空腔體的放料閥,、壓控閥內(nèi)有雜物,。解決辦法：清洗；昆明非標(biāo)真空設(shè)備腔體廠家供應(yīng)