二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術**地降低了化學藥劑的使用，簡化了運行操作,，降低了總的固定投資費用,。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學藥劑使用的要求，但我們可以預期，隨著過濾及RO膜技術的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經濟性將會得到進一步的提高。

  將來會如何變化,？我們會看到在所有的工業(yè)單元中降低對化學藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A計,，在3到5年的時間內，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會采用RO／EDI系統(tǒng),，剩余15％的部分則是應用在預處理的費用較高或者不能抵消非化學方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場合,。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現在已完全確立了其市場地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受,，此項技術的發(fā)展將取決于工業(yè)界對采用非化學方法制取純水的不斷需求,。

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4、西門子（IONPURE）EDI模塊,，降低運行成本,。EDI設備運行只需要消耗電力，而混床技術還需要酸堿,。所以DEI超純水設備節(jié)約酸堿降低了運行的成本,。

  5、西門子（IONPURE）EDI模塊,，操作更加的簡單,，只需要調節(jié)電源的電壓、電流,、實現了全自動的控制,。

  6、西門子（IONPURE）EDI模塊,，出水水質好,，并且延長了設備的使用壽命。

  7,、西門子（IONPURE）EDI模塊，設備占地小,，廠房高度要求低,，3米足夠。

  8,、西門子（IONPURE）EDI模塊,，設備安裝維修簡單便捷，任一膜塊的維修,、更換都不影響其他膜塊的運行,。

  9、西門子（IONPURE）EDI模塊,，總投資少,，EDI雖然本身價位高，但是節(jié)省了廠房用地成本,，節(jié)省了運行成本,。總體降低了總投資費用,。 北京進口美國IONPURE EDI模塊廠家供應美國IONPURE EDI模塊請使用正規(guī)產品,。

影響ionpureEDI模塊性能的主要污染物有二氧化碳、懸浮顆粒及膠體等,，這些污染物會帶來以下危害：

  1,、氧化劑：給水中的氧化劑會氧化樹脂和離子交換膜，并導致樹脂和膜的降解從而降低交換容量和選擇透過性能。氧化還會引起樹脂裂解,，造成進出水壓力降上升,，膜堆壽命縮短。

  2,、活性金屬：很低濃度的活性金屬即可以催化氧化交換樹脂和膜,，并可被大量樹脂和膜吸附使其交換能力下降，使樹脂和膜的離子傳導作用減弱,，從而造成ionpureEDI模塊性能衰減,。

  3、懸浮顆粒和膠體：顆粒和膠體物質可以用污染指 數值表征,。水中的懸浮顆粒和膠體物質會對樹脂及膜形成污染,，并造成ionpureEDI模塊內部流道的堵塞，使膜堆給水壓力升高,。

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現,。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側發(fā)生移動,表現為出水水質變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質變化,弱電離子的漏出多少來實現,并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋,。

     濃水流量的變化是另一個調節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響,。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ,。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一,。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。

3,、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當,，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎,，堵塞產水通道,，水量下降。

  4,、采用不當的清洗和消毒,，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大,，造成產水水質和水量全部下降,。

  5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動運行時,，在缺水狀態(tài)下加電,，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效,，無法使用,。

  6,、IONPUREEDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱,，導致異物堵塞EDI通道,，進出水壓差增大，造成產水水量嚴重下降,，清洗無效,。

  7、出廠時產品不合格,，使用一段時間不明原因的漏水,。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作,。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報價,。山東原裝美國IONPURE EDI模塊報價

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況,。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行,。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求）?？傮w來說,，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環(huán)中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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