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美國Ionpure EDI模塊由陰/陽離子交換膜，混床樹脂,，淡/濃水室和陰/陽電極構(gòu)成。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行,。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）,。總體來說,，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過,。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短,，增加運(yùn)行成本,，嚴(yán)重影響生產(chǎn),。

導(dǎo)致西門子EDI模塊故障的主要原因：

  1、西門子EDI模塊長期在大電流,，低于額定流量情況下運(yùn)行,，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,，水質(zhì)和水量下降,，嚴(yán)重會碳化漏水。

  2,、西門子EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大,，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,，電流無法調(diào)節(jié)，電壓上升,。

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二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用,，簡化了運(yùn)行操作,，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求,，但我們可以預(yù)期,，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會得到進(jìn)一步的提高,。

  將來會如何變化,？我們會看到在所有的工業(yè)單元中降低對化學(xué)藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A(yù)計(jì),，在3到5年的時(shí)間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會采用RO／EDI系統(tǒng),，剩余15％的部分則是應(yīng)用在預(yù)處理的費(fèi)用較高或者不能抵消非化學(xué)方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場合,。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受,，此項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展將取決于工業(yè)界對采用非化學(xué)方法制取純水的不斷需求,。

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a.  淡水進(jìn)入淡水室后,，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離,；

b.  被交換的離子受電性吸引作用,，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移,，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除,。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動態(tài)平衡,。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室,，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊,，則從模塊底部出來,；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室）,，并從模塊頂部排出,。 浙江批發(fā)美國IONPURE EDI模塊

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