氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液，為無色透明有刺激性氣味的發(fā)煙液體,，有劇毒,，有腐蝕性，能強(qiáng)烈地腐蝕金屬,、玻璃和含硅的物體,，如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以防治的灼傷。氫氟酸通常用來蝕刻玻璃,，可以雕刻圖案,、標(biāo)注刻度和文字。氫氟酸具有劇毒性,，這個(gè)在化學(xué)領(lǐng)域沒有異議,！雖然氫氟酸是“弱酸”，但我們要明白,，酸的“強(qiáng)弱”指的是在水中能否完全電離,，它的強(qiáng)弱與殺傷力沒有太大關(guān)系。氫氟酸對人的毒性在無機(jī)酸里是數(shù)一數(shù)二的強(qiáng)??！HF濃度低時(shí)因形成氫鍵具有弱酸性，但濃時(shí)的電離度比稀時(shí)大而與一般弱電解質(zhì)有別，液態(tài)氫氟酸酸性很強(qiáng),，酸度與無水硫酸相當(dāng),！在使用氫氟酸時(shí)必須遵循相應(yīng)的安全操作程序和應(yīng)急處理程序。四川純氫氟酸廠家

電子級氫氟酸是由無水氫氟酸經(jīng)進(jìn)一步處理得到的優(yōu)越氫氟酸產(chǎn)品,。電子級氫氟酸主要用于集成電路和超大規(guī)模集成電路芯片的清洗和腐蝕領(lǐng)域,，是微電子行業(yè)生產(chǎn)所需的關(guān)鍵基礎(chǔ)化工原材料之一。隨著我國集成電路,、半導(dǎo)體等行業(yè)快速發(fā)展,，電子級氫氟酸市場需求不斷增長，推動我國電子級氫氟酸行業(yè)產(chǎn)量不斷上升,。2010-2016年,，我國電子級氫氟酸行業(yè)產(chǎn)量由3.9萬噸增長至12.5萬噸，年均復(fù)合增長率為21.4%;2017年,，我國電子級氫氟酸行業(yè)產(chǎn)量達(dá)到15.0萬噸以上,。受下游市場需求不斷增長的推動，我國電子級氫氟酸行業(yè)產(chǎn)量快速上升,。目前,，國產(chǎn)電子級氫氟酸用量只占到國內(nèi)需求的不足5%，仍幾乎完全依賴進(jìn)口,。40%氫氟酸哪家有賣在使用氫氟酸時(shí),，必須對周圍環(huán)境進(jìn)行檢查和監(jiān)控。

在氫氟酸的使用和處理中,，還需要注意環(huán)保問題,。氫氟酸的排放和處理需要遵守相關(guān)法律法規(guī)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，采取適當(dāng)?shù)奶幚泶胧?，以減少對環(huán)境的影響,。氫氟酸是一種特殊的弱酸，其酸性比一般弱酸強(qiáng)很多,。氫氟酸的酸性來自于它分解出的氟離子,，它的弱酸性主要有以下兩個(gè)原因：HF分子中氫與氟的電負(fù)性差距很大，形成極性共價(jià)鍵,，導(dǎo)致分子極性很強(qiáng),。這使得氫離子在HF分子中難以釋放，從而使HF不易離解產(chǎn)生氫離子,，因此是弱酸,。氟離子在水中是一種非常強(qiáng)的親核劑，它可以與水分子結(jié)合形成氫氟酸的緩沖體系,，從而使氫離子的濃度保持在一個(gè)較低的水平,，進(jìn)一步減弱了酸性,。盡管氫氟酸是一種弱酸，但它的腐蝕性非常強(qiáng),，可以腐蝕許多金屬和玻璃,，并對人體組織具有強(qiáng)烈的腐蝕作用，使用時(shí)應(yīng)該格外小心,。

電子級氫氟酸生產(chǎn)工藝:將無水氫氟酸（國家標(biāo)準(zhǔn)）經(jīng) 化學(xué)預(yù)處理 后,，進(jìn)入精餾塔通過 精餾 操作，得到的氟化氫氣體經(jīng) 冷卻 后,，在吸收塔中用 超純水吸收 ,，并采用控制噴淋密度、氣液比等方法使電子級氫氟酸進(jìn)一步 純化 ,，隨后經(jīng)0.2μm以下 超濾 工序,，之后在 密閉潔凈環(huán)境條件下（百級以下） 進(jìn)行灌裝 得到之后產(chǎn)品———電子級氫氟酸。目前國內(nèi)外制備電子級氫氟酸的常用提純技術(shù)有精餾,、蒸餾,、亞沸蒸餾、減壓蒸餾,、氣體吸收等技術(shù),，這些提純技術(shù)各有特性，各有所長,。如亞沸蒸餾技術(shù)只能用于制備量少的產(chǎn)品,，氣體吸收技術(shù)可以用于大規(guī)模的生產(chǎn)。在使用氫氟酸時(shí)必須使用有效的氣體檢測器,。

電子級氫氟酸的生產(chǎn)壁壘在于對金屬離子含量的高標(biāo)準(zhǔn)。半導(dǎo)體中的金屬離 子雜質(zhì)會影響半導(dǎo)體中少子的壽命,、表面的導(dǎo)電性,、門氧化物的完整性和穩(wěn)定性 等參數(shù)，且金屬離子雜質(zhì)在高溫下或電場下會向半導(dǎo)體本體擴(kuò)散或在表面擴(kuò)大分 布,，導(dǎo)致半導(dǎo)體性能下降,，因此氫氟酸對其中的金屬離子含量有比較嚴(yán)格的要求， 且適用的晶圓半徑越大,，制程越好,，對金屬離子含量的要求越高。半導(dǎo)體用的氫 氟酸所有單項(xiàng)金屬雜質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)≤0.1μg/L,，對應(yīng) SEMI 為 G4 以上等級的氫氟 酸,，對應(yīng)國內(nèi)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)則是 UP-SS 及以上等級的氫氟酸。對于現(xiàn)在國際上主流的 12 寸晶圓,，其制造過程中需要金屬離子含量低于 0.0001μg/L,，對應(yīng) SEMI G5 或者 UP-SSS 標(biāo)準(zhǔn)。使用氫氟酸必須嚴(yán)格遵守安全操作規(guī)程和應(yīng)急處理程序。氫氟酸多少錢

在使用氫氟酸時(shí)必須使用高效的通風(fēng)和過濾設(shè)施,。四川純氫氟酸廠家

通過相關(guān)資料了解到,，國內(nèi)外相關(guān)產(chǎn)品各標(biāo)準(zhǔn)在相同項(xiàng)目的測定方法基本是一致的。如氫氟酸含量采用以酚酞為指示劑,，以氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液為滴定劑的酸堿中和滴定法,；氟硅酸含量的測定采用在鉀鹽存在下使其生成氟硅酸鹽后分離，沉淀溶解后用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液滴定,。對于低含量的氟硅酸的測定,，一般采用硅鉬藍(lán)分光光度法進(jìn)行測定；硫酸含量的測定是將氫氟酸分離后,，用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液滴定,。日本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的灼燒殘?jiān)康臏y定為700℃下灼燒后穩(wěn)重的方法。相關(guān)資料了解,，日本標(biāo)準(zhǔn)JIS K1405－1995《氫氟酸》相對于其它國外標(biāo)準(zhǔn),，技術(shù)要求、指標(biāo)項(xiàng)目,、試驗(yàn)方法等方面均處于先進(jìn)水平,。但由于日本標(biāo)準(zhǔn)主要是針對本國的生產(chǎn)、使用要求而制定的,，與我國對氫氟酸的要求存在一定的差異,。但對我國標(biāo)準(zhǔn)有借鑒作用。四川純氫氟酸廠家

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