發(fā)展趨勢(shì)：2001年到2010年這10年間,，我國(guó)集成電路產(chǎn)量的年均增長(zhǎng)率超過(guò)25%，集成電路銷售額的年均增長(zhǎng)率則達(dá)到23%,。2010年國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)量達(dá)到640億塊,，銷售額超過(guò)1430億元，分別是2001年的10倍和8倍,。中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模已經(jīng)由2001年不足世界集成電路產(chǎn)業(yè)總規(guī)模的2%提高到2010年的近9%,。中國(guó)成為過(guò)去10年世界集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展較快的地區(qū)之一。國(guó)內(nèi)集成電路市場(chǎng)規(guī)模也由2001年的1140億元擴(kuò)大到2010年的7350億元,，擴(kuò)大了6.5倍,。國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模與市場(chǎng)規(guī)模之比始終未超過(guò)20%。如扣除集成電路產(chǎn)業(yè)中接受境外委托代工的銷售額,，則中國(guó)集成電路市場(chǎng)的實(shí)際國(guó)內(nèi)自給率還不足10%,，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)所需的集成電路產(chǎn)品主要依靠進(jìn)口。集成電路的設(shè)計(jì)考慮功耗,、散熱和可靠性等因素,，以實(shí)現(xiàn)電路的更優(yōu)性能和穩(wěn)定性。NSS40301MDR2G

集成電路（IC）是現(xiàn)代電子設(shè)備中不可或缺的主要部件,，其性能和可靠性直接影響著整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和性能,。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，IC的制造工藝也在不斷升級(jí),，從微米級(jí)別逐漸向納米級(jí)別發(fā)展,。然而，隨著器件尺寸的不斷縮小,，IC的泄漏電流問(wèn)題也日益突出,。泄漏電流是指在關(guān)閉狀態(tài)下,，由于器件本身的缺陷或制造工藝的不完善，導(dǎo)致電流從源極或漏極流向柵極的現(xiàn)象,。泄漏電流的存在會(huì)導(dǎo)致功耗增加,、溫度升高、壽命縮短等問(wèn)題,，嚴(yán)重影響著IC的性能和可靠性,。因此，制造商需要采用更先進(jìn)的幾何學(xué)來(lái)解決這一問(wèn)題,。NCN8024DWR2G集成電路在信息社會(huì)中的普及應(yīng)用,，使得電腦、手機(jī)和其他數(shù)字設(shè)備成為現(xiàn)代社會(huì)中不可或缺的一部分,。

制作工藝：集成電路按制作工藝可分為半導(dǎo)體集成電路和膜集成電路,。膜集成電路又分類厚膜集成電路和薄膜集成電路。集成電路按導(dǎo)電類型可分為雙極型集成電路和單極型集成電路,，他們都是數(shù)字集成電路,。雙極型集成電路的制作工藝復(fù)雜，功耗較大,，按用途：集成電路按用途可分為電視機(jī)用集成電路,、音響用集成電路、影碟機(jī)用集成電路,、錄像機(jī)用集成電路,、電腦（微機(jī)）用集成電路、電子琴用集成電路,、通信用集成電路,、照相機(jī)用集成電路、遙控集成電路,、語(yǔ)言集成電路,、報(bào)警器用集成電路及各種集成電路。

典型的如英國(guó)雷達(dá)研究所的科學(xué)家達(dá)默,，他在1952年的一次會(huì)議上提出：可以把電子線路中的分立元器件,，集中制作在一塊半導(dǎo)體晶片上，一小塊晶片就是一個(gè)完整電路,，這樣一來(lái),，電子線路的體積就可很大程度上縮小，可靠性大幅提高,。這就是初期集成電路的構(gòu)想,，晶體管的發(fā)明使這種想法成為了可能，1947年在美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室制造出來(lái)了第1個(gè)晶體管,，而在此之前要實(shí)現(xiàn)電流放大功能只能依靠體積大,、耗電量大,、結(jié)構(gòu)脆弱的電子管。晶體管具有電子管的主要功能,，并且克服了電子管的上述缺點(diǎn),，因此在晶體管發(fā)明后，很快就出現(xiàn)了基于半導(dǎo)體的集成電路的構(gòu)想,，也就很快發(fā)明出來(lái)了集成電路,。數(shù)字集成電路在芯片上集成了邏輯門、觸發(fā)器和多任務(wù)器等元件,，使得電路快速,、高效且成本低廉。

在光刻工藝中,，首先需要將硅片涂上一層光刻膠,，然后使用光刻機(jī)將光刻膠暴露在紫外線下，形成所需的圖案,。接著,，將硅片放入顯影液中，使未暴露的光刻膠被溶解掉,，形成所需的圖案。通過(guò)將硅片放入蝕刻液中,，將暴露出來(lái)的硅片部分蝕刻掉,，形成所需的電路結(jié)構(gòu)。光刻工藝的精度和穩(wěn)定性對(duì)電路的性能和可靠性有著重要的影響,。外延工藝是集成電路制造中用于制備復(fù)雜器件的重要工藝之一,，其作用是在硅片表面上沉積一層外延材料，以形成復(fù)雜的電路結(jié)構(gòu)和器件,。外延材料可以是硅,、砷化鎵、磷化銦等半導(dǎo)體材料,。在外延工藝中,，首先需要將硅片表面清洗干凈，然后將外延材料沉積在硅片表面上,。外延材料的沉積過(guò)程需要控制溫度,、壓力和氣體流量等參數(shù)，以保證外延層的質(zhì)量和厚度,。外延工藝的精度和穩(wěn)定性對(duì)電路的性能和可靠性有著重要的影響,。外延工藝還可以用于制備光電器件、激光器件等高級(jí)器件,，具有普遍的應(yīng)用前景,。集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的完善和技術(shù)進(jìn)步,，為經(jīng)濟(jì)發(fā)展和社會(huì)進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn)。NSS40301MDR2G

集成電路的微小尺寸和低功耗特性,，使得電子設(shè)備更加輕巧,、高效和智能。NSS40301MDR2G

近幾年國(guó)內(nèi)集成電路進(jìn)口規(guī)模迅速擴(kuò)大,，2010年已經(jīng)達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的1570億美元,，集成電路已連續(xù)兩年超過(guò)原油成為國(guó)內(nèi)較大的進(jìn)口商品。與巨大且快速增長(zhǎng)的國(guó)內(nèi)市場(chǎng)相比,，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)雖發(fā)展迅速但仍難以滿足內(nèi)需要求,。當(dāng)前以移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)、三網(wǎng)融合,、物聯(lián)網(wǎng),、云計(jì)算、智能電網(wǎng),、新能源汽車為表示的戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,，將成為繼計(jì)算機(jī)、網(wǎng)絡(luò)通信,、消費(fèi)電子之后,，推動(dòng)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新動(dòng)力。工信部預(yù)計(jì),，國(guó)內(nèi)集成電路市場(chǎng)規(guī)模到2015年將達(dá)到12000億元,。我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的生態(tài)環(huán)境亟待優(yōu)化，設(shè)計(jì),、制造,、封裝測(cè)試以及設(shè)備、儀器,、材料等產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同性不足,，芯片、軟件,、整機(jī),、系統(tǒng)、應(yīng)用等各環(huán)節(jié)互動(dòng)不緊密,。NSS40301MDR2G