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極紫外光刻（英語：Extremeultra-violet,，也稱EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長是下一代光刻技術，其波長為13.5納米,，預計將于2021年得到廣泛應用,。幾乎所有的光學材料對13.5nm波長的極紫外光都有很強的吸收，因此,，EUV光刻機的光學系統(tǒng)只有使用反光鏡,。我們上海微聯(lián)實業(yè)的RSA905鋁合金材料正是適合做反射鏡的材料，很好得避免了材料吸收紫外線的問題,。增大紫外線的反射率,。此外在天體物理學的應用上，有國際紫外探測器（IUE）,，是一個主要用于紫外光譜觀測的天文衛(wèi)星,。在超過19年的觀測時間里，IUE對不同的天體進行了10萬次以上的觀測,，這些天體包括：行星,、彗星、恒星,、星際氣體,、超新星、行星極光,、星系和類星體等,。這也是這種材料的典型應用。制備微晶鋁合金技術指導

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