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來源: 發(fā)布時間:2025-04-12

超高精度溫度控制是精密環(huán)控柜的一大突出亮點,。其自主研發(fā)的高精密控溫技術,,使得控制輸出精度達到驚人的 0.1% ,這意味著對溫度的調(diào)控能夠精細到極小的范圍,。設備內(nèi)部溫度穩(wěn)定性在關鍵區(qū)域可達 +/-2mK (靜態(tài)) ,,無論外界環(huán)境如何變化,都能保證關鍵部位的溫度處于極其穩(wěn)定的狀態(tài),。內(nèi)部溫度規(guī)格可在 22.0°C (可調(diào)) ,,滿足不同用戶對溫度的個性化需求。而且溫度水平均勻性小于 16mK/m ,,確保柜內(nèi)各個角落的溫度幾乎一致,,避免因溫度差異導致的實驗誤差或產(chǎn)品質(zhì)量問題。再加上設備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達 ±0.5%@8h ,,以及壓力穩(wěn)定性可達 +/-3Pa ,,連續(xù)穩(wěn)定工作時間大于 144h ,為對溫濕度,、壓力要求苛刻的實驗和生產(chǎn)提供了可靠的環(huán)境保障,,讓長時間的科研實驗和精密制造得以順利進行。制冷單元內(nèi)部采用高效隔音材質(zhì),,進一步降低設備噪音,,噪音<45dB。福建恒溫恒濕

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我司憑借深厚的技術積累,,自主研發(fā)出高精密控溫技術,,精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現(xiàn)±0.1℃,、±0.05℃,、±0.01℃、±0.005℃,、±0.002℃等精密環(huán)境控制,。該系統(tǒng)潔凈度可實現(xiàn)百級、十級,、一級,。關鍵區(qū)域 ±5mK(靜態(tài))的溫度穩(wěn)定性,以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格,,為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項目,,打造了近乎完美的溫場環(huán)境,保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾,。同時,,設備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達±0.5%@8h,壓力穩(wěn)定性可達+/-3Pa,,長達 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂,。在潔凈度方面,實現(xiàn)百級以上潔凈度控制,,工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3,,確保實驗結果的準確性與可靠性,,也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。安徽恒溫恒濕系統(tǒng)關于防微振,,除了控制風速降低振動外,,在地面增加隔振基礎,可有效降低外部微振動的傳遞,。

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設備運行靜音高效是精密環(huán)控柜的又一優(yōu)勢,。采用的 EC 風機,具備更高效,、更強大,、更安靜的運行特點。相比傳統(tǒng)風機,,EC 風機能夠在提供充足風量的同時,,有效降低能耗,提高能源利用效率,。制冷單元內(nèi)部采用高效隔音材質(zhì),,進一步降低設備噪音,使其運行噪音小于 45dB ,。噪音作為一種能量對于生產(chǎn)過程存在難以忽視的影響,,極低的噪音恰恰能防止設備收到干擾,影響生產(chǎn)環(huán)境,。高效的運行則保證了設備能夠快速,、穩(wěn)定地調(diào)節(jié)溫濕度和潔凈度,滿足各類精密實驗和生產(chǎn)的需求,。

在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域,,從芯片光刻、蝕刻到沉積,、封裝等每一步,,都對環(huán)境條件有著近乎嚴苛的要求,而精密環(huán)控柜憑借其性能成為保障生產(chǎn)的關鍵要素,。芯片光刻環(huán)節(jié),,光刻機對環(huán)境穩(wěn)定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動,,都可能使光刻機內(nèi)部的精密光學元件因熱脹冷縮產(chǎn)生細微形變,,導致光路偏差,使光刻圖案精度受損,。精密環(huán)控柜憑借超高精度溫度控制,,將溫度波動控制在極小范圍,確保光刻機高精度運行,,讓芯片光刻圖案正常呈現(xiàn),。高精密環(huán)控設備可移動,,容易維護和擴展。

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在精密機械加工領域,,高精度數(shù)控機床是加工航空發(fā)動機葉片等關鍵零部件的重要裝備,,其加工精度直接影響航空發(fā)動機性能。溫濕度波動對加工過程影響明顯,。若溫度不穩(wěn)定,機床的主軸,、導軌等關鍵部件會因熱脹冷縮產(chǎn)生熱變形,,導致刀具切削路徑偏離預設軌跡,加工出的葉片曲面精度無法達到設計標準,,進而影響發(fā)動機性能,。當車間濕度升高,金屬切削刀具容易生銹,,刀具使用壽命縮短,,且加工表面粗糙度增加,難以滿足精密零件對表面質(zhì)量的嚴格要求 ,。為航天零部件檢測打造的專屬環(huán)境,,滿足其對溫濕度、潔凈度近乎苛刻的要求,。安徽恒溫恒濕系統(tǒng)

電子顯微鏡觀測時,,設備營造的穩(wěn)定環(huán)境,確保成像清晰,,助力科研突破,。福建恒溫恒濕

在光學鏡片研磨這一精細入微的工藝里,溫濕度波動無疑是如影隨形的 “大敵”,,對鏡片質(zhì)量的影響堪稱致命,。就研磨設備而言,即便是零點幾攝氏度的細微溫度變化,,也會迅速讓研磨盤與鏡片材料的熱膨脹系數(shù)差異暴露無遺,。這一差異會直接導致鏡片在研磨過程中受力不均,研磨效果參差不齊,,鏡片的曲率精度因此大打折扣,,進而嚴重影響其光學性能。而當處于高濕度環(huán)境時,,空氣中彌漫的水汽就像隱匿的破壞者,,極易在鏡片表面悄然凝結成水漬。這些水漬會在后續(xù)鍍膜工藝中成為棘手難題,,極大地干擾鍍膜均勻性,,致使鏡片的透過率和抗反射能力雙雙下滑,,成品鏡片根本無法契合光學儀器所要求的嚴苛標準。福建恒溫恒濕