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廣州硅片濕法設(shè)備價(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-01-17

電池濕法設(shè)備主要是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗處理,2022年成功研發(fā)雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備,,并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),,結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能,、安全性升級(jí),。去PSG工藝首先將繞擴(kuò)層PSG進(jìn)行去除,利用背面PSG保護(hù),,在槽式清洗中完成去繞度工藝,。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸,整機(jī)設(shè)計(jì)為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu),,料臺(tái)歸正寬度可調(diào),,兼容更多規(guī)格的硅片,并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口,;去PSG設(shè)備布局前后通透,,給設(shè)備使用者提供了便捷性;上料臺(tái)搭配了大流量全新滴液泵,;,。電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度,。廣州硅片濕法設(shè)備價(jià)格

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電池濕法設(shè)備能改善電池表面微觀結(jié)構(gòu),,提升硅片表面潔凈度,降低表面污染,,從而提升電池轉(zhuǎn)化效率,。濕法設(shè)備:釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON,、HPBC等相匹配,,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能,、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí),。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率,。 HJT裝備與材料:包含制絨清洗設(shè)備,、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備,、金屬化設(shè)備等,。 電鍍銅設(shè)備:采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極,具備低成本,、高效率等優(yōu)勢(shì),。 深圳HJT濕法清洗設(shè)備光伏電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝)可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度,。

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光伏電池濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面,,增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收,降低反射率l增加硅片表面積,,進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加,。太陽(yáng)能光伏濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)、制絨設(shè)備(Topcon工藝),、濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝),、RCA槽式清洗設(shè)備(Topcon工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝),、濕法制絨設(shè)備(HJT工藝),、電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝)、制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)等

濕法設(shè)備Topcon工藝,,拋清洗設(shè)備,,功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),,保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性,。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),,對(duì)背面作拋光處理,。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式,l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備,,設(shè)備產(chǎn)能大,,穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制,,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能,。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,,設(shè)備滿(mǎn)足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì),。l可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備,,提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中,,需要進(jìn)行多次溝通和協(xié)調(diào),,保持生產(chǎn)和管理的順暢。

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濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面,,增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收,,降低反射率l增加硅片表面積,進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加,。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制,,兼容MES,UPS和RFID功能,。機(jī)械手分配合理,,有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì),,避免材料雜質(zhì)析出,;引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度,。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu),,有效提升脫水能力,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì),。采用低溫烘干技術(shù),,保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。光伏電池濕法制絨設(shè)備(HJT工藝)所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì),,避免材料雜質(zhì)析出,;上海高效濕法三頭

電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中,需要使用一些特殊的材料和化學(xué)試劑,,需要注意安全,。廣州硅片濕法設(shè)備價(jià)格

濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)、制絨設(shè)備(Topcon工藝)、濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝),、RCA槽式清洗設(shè)備(Topcon工藝),、電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)、濕法制絨設(shè)備(HJT工藝),、電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝),、制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)等;釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC,、TOPCON、HPBC等相匹配,,在設(shè)備結(jié)構(gòu),、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí),。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,,從而提升電池的質(zhì)量和效率。廣州硅片濕法設(shè)備價(jià)格