Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學廢料產(chǎn)生,，同時低能耗設計（如固態(tài)激光光源）符合綠色實驗室標準。例如,，其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%,，助力科研機構(gòu)實現(xiàn)碳中和目標,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容：金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,，微流控芯片集成傳感器一步成型,。浙江德國桌面無掩模光刻機

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。陜西POLOSBEAM光刻機低成本科研普惠：桌面化設計減少投入，無掩膜工藝降低中小型實驗室門檻,。

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢,，便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,，創(chuàng)新的設計理念往往需要快速驗證,，而 Polos 光刻機正滿足了這一需求?？蒲腥藛T無需花費大量時間和成本制作掩模,，只需將設計圖案導入系統(tǒng)，就能迅速開始光刻作業(yè),。? 在生物醫(yī)學工程領(lǐng)域,，研究人員利用這一特性,，快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片，用于疾病診斷和藥物篩選,。在材料科學研究中,，可根據(jù)不同材料特性，定制獨特的圖案結(jié)構(gòu),，探索材料的新性能,。這種靈活的圖案輸入方式，remarkable縮短了科研周期,，加速科研成果的產(chǎn)出,，讓科研人員能夠?qū)⒏嗑ν度氲絼?chuàng)新研究中。

在科研領(lǐng)域,，設備的先進程度往往決定了研究的深度與廣度,。德國的 Polos - BESM、Polos - BESM XL,、SPS 光刻機 POLOS μ 帶來了革新之光,。它們運用無掩模激光光刻技術(shù)，摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長的掩模,，極大降低了成本,。這些光刻機可輕松輸入任意圖案進行曝光，在微流體,、電子學和納 / 微機械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手,。例如在微流體研究中，能precise制造復雜的微通道網(wǎng)絡,，助力藥物傳輸,、細胞培養(yǎng)等研究。在電子學方面,，可實現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,，為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,，對于空間有限的研究實驗室來說堪稱完美,。憑借出色特性，它們已助力眾多科研團隊取得成果,，成為科研創(chuàng)新的得力助手 ,。固態(tài)電池：鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2，電池循環(huán)壽命提升 3 倍,。

某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,，使材料表面接觸角達 165°,，滾動角小于 3°,。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍,。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,，被用于微流控芯片的液滴定向輸運，液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。光學超材料突破：光子晶體結(jié)構(gòu)precise制造，賦能超透鏡與隱身技術(shù)研究,。陜西德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

光刻膠broad兼容：支持AZ5214E,、SU-8等材料，優(yōu)化參數(shù)降低側(cè)壁粗糙度,。浙江德國桌面無掩模光刻機

對于納 / 微機械系統(tǒng)的研究與制造,，德國 Polos 光刻機系列展現(xiàn)出強大實力。無掩模激光光刻技術(shù)賦予它高度的靈活性,，科研人員能夠快速將創(chuàng)新設計轉(zhuǎn)化為實際器件,。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結(jié)構(gòu)時,，Polos 光刻機可precise控制激光,，確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機,，科研團隊成功研發(fā)出新型微機械傳感器,，其靈敏度和響應速度遠超傳統(tǒng)產(chǎn)品。并且,，由于系統(tǒng)占用空間小,，即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本,、高效率的特性,，成為納 / 微機械系統(tǒng)領(lǐng)域的制造先鋒,，助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。浙江德國桌面無掩模光刻機