在organ芯片研究中,，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結(jié)構(gòu)。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面,。某再生醫(yī)學(xué)實驗室使用 Polos 光刻機，成功制備出肝芯片微通道,，其內(nèi)皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%,，且可通過軟件實時調(diào)整通道曲率，precise模擬肝臟血流動力學(xué),。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期,，為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例,。柔性電子：曲面 OLED 驅(qū)動電路漏電降 70%,，彎曲半徑達 1mm,，適配可穿戴設(shè)備,。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導(dǎo)入,，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),，載體的 DNA 負載量達 200μg/mg，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,，該載體在肝臟靶向遞送中,，基因轉(zhuǎn)染效率達 65%，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌,，在 CAR-T 細胞treatment中，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關(guān)技術(shù)已申請國際patent,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。上海POLOSBEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化納 / 微機械：亞微米級結(jié)構(gòu)加工，微型齒輪精度達 ±50nm,，推動微機電系統(tǒng)創(chuàng)新,。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如,，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程。研究團隊利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件,，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。

在航空航天科研中,，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,，制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵,。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù)，助力團隊制造出尺寸precise,、質(zhì)量輕盈的微型齒輪,、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu)。例如,，利用該光刻機制造的微型齒輪,，齒距精度達到納米級別，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性,?；诖耍蒲袌F隊成功試飛了一款新型微型飛行器,，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產(chǎn)品,，為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ)。微流體3D成型：復(fù)雜流道快速曝光,，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。

超表面通過納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光場，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下,。Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)在石英基底上實現(xiàn)了亞波長量級的圖案曝光,，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5。某光子學(xué)實驗室利用該設(shè)備,，研制出寬帶消色差超表面透鏡,，在 400-1000nm 波長范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm。其靈活的圖案編輯功能還支持實時優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù),，使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時,，推動超表面技術(shù)從理論走向集成光學(xué)應(yīng)用。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。技術(shù)Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品,，推動無掩模光刻技術(shù)普及,。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

亞微米級精度：0.8 μmmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造,。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。陜西桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長