某分析化學(xué)實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,，傳感器的檢測限達 1nM,，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍,。通過軟件輸入不同圖案，可在 24 小時內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換,。該芯片被用于即時檢測（POCT）設(shè)備,，使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,，相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認(rèn)證,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。未來技術(shù)儲備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,，lead微納制造前沿,。安徽PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化

針對植入式醫(yī)療設(shè)備的長期安全性問題，某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸（）基底上制備可降解電極,。其無掩模技術(shù)避免了傳統(tǒng)掩模污染，使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,，生物相容性測試顯示細(xì)胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,，開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器，在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個月，信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%,，相關(guān)技術(shù)已進入臨床前生物相容性評價階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。廣東桌面無掩模光刻機光源波長405微米柔性電子：曲面 OLED 驅(qū)動電路漏電降 70%，彎曲半徑達 1mm,，適配可穿戴設(shè)備,。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如,，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程。研究團隊利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件,，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢,。

在organ芯片研究中，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結(jié)構(gòu),。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面。某再生醫(yī)學(xué)實驗室使用 Polos 光刻機,，成功制備出肝芯片微通道,，其內(nèi)皮細(xì)胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%，且可通過軟件實時調(diào)整通道曲率,，precise模擬肝臟血流動力學(xué),。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期，為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例,。成本效益：單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3,，小批量研發(fā)更經(jīng)濟。

Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學(xué)廢料產(chǎn)生,，同時低能耗設(shè)計（如固態(tài)激光光源）符合綠色實驗室標(biāo)準(zhǔn),。例如，其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%,，助力科研機構(gòu)實現(xiàn)碳中和目標(biāo),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。科研成果轉(zhuǎn)化：中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞浸潤機制,。重慶德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

Polos-BESM XL：130mm×130mm 曝光幅面，STL 模型直接導(dǎo)入,，微流控芯片制備周期縮短 40%,。安徽PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于阻變存儲器（RRAM）的存算一體架構(gòu),。其激光直寫技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制，器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%,，計算能效比達 10TOPS/W,，較傳統(tǒng) GPU 提升兩個數(shù)量級?；谠摷夹g(shù)的邊緣 AI 芯片,，在圖像識別任務(wù)中能耗降低 80%，推理速度提升 3 倍,，已應(yīng)用于智能攝像頭和無人機避障系統(tǒng),，相關(guān)芯片出貨量突破百萬片。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。安徽PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化