德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術,，突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源,，可在5英寸晶圓上實現(xiàn)高精度微納結構加工18。系統(tǒng)體積緊湊,，only占桌面空間,，搭配閉環(huán)自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準功能，大幅提升實驗室原型開發(fā)效率,，適用于微流體芯片設計,、電子元件制造等領域。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢。柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路,，推動5G通信與物聯(lián)網硬件發(fā)展,。黑龍江桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

在微流體研究領域，德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出,。其無掩模激光光刻技術,，打破傳統(tǒng)光刻的局限，無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作,。這使得科研人員在構建微通道網絡時,，可根據實驗需求自由設計，快速完成從圖紙到實體的轉化,。?以藥物傳輸研究為例,，利用 Polos 光刻機，能制造出尺寸precise,、結構復雜的微通道,，模擬人體環(huán)境，讓藥物在微小空間內可控流動,，much提升藥物傳輸效率研究的準確性,。同時，在細胞培養(yǎng)實驗中,，該光刻機制作的微流體芯片,，為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境，助力細胞生物學研究取得新突破,。小空間大作為的 Polos 光刻機,，正推動微流體研究不斷向前。河南桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模微流體3D成型：復雜流道快速曝光,，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性,。例如，其軟件支持GDS文件直接導入,，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程,。研究團隊利用同類設備成功制備了高頻電路元件，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網硬件中的潛力,。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。

在微流體領域,，Polos系列光刻機通過無掩模技術實現(xiàn)了復雜3D流道結構的快速成型。例如,，中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,，研究細胞球浸潤行為，為組織工程提供了新型生物界面設計策略10,。Polos設備的精度與靈活性可支持此類仿生結構的批量生產,，推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢。技術Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創(chuàng)新產品,，推動無掩模光刻技術普及,。

可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統(tǒng)工藝需多次掩模對準,，良率only 30%,。Polos 光刻機的多材料同步曝光技術，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,，將良率提升至 85%,。某微系統(tǒng)實驗室利用該特性，開發(fā)出可實時切換流路的生化分析芯片,，通過軟件輸入不同圖案,，10 分鐘內即可完成從 DNA 擴增到蛋白質檢測的模塊切換。該成果應用于 POCT 設備,，使現(xiàn)場快速檢測系統(tǒng)的體積縮小 60%,，檢測時間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。無掩模技術優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模,，圖案實時調整,，研發(fā)成本降低 70%，小批量生產經濟性突出,。廣東德國POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

科研成果轉化：中科院利用同類技術制備跨尺度微盤陣列,，研究細胞浸潤機制。黑龍江桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

無掩模激光光刻技術為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,，可用于創(chuàng)建亞微米級特征,，并促進電路和器件的快速原型設計。經濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復雜的基礎設施和設備即可使用光刻技術,。應用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM),、生物醫(yī)學設備和微電子器件的設計和制造，例如以下領域：醫(yī)療（包括微流體）,、半導體,、電子、生物技術和生命科學,、先進材料研究,。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預計在 2022 年達到 3.3606 億美元，預計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復合年增長率為 6.90%,。由于對 5G,、AIoT、物聯(lián)網以及半導體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,，預計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。黑龍江桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長