Polos光刻機與德國Lab14集團,、弗勞恩霍夫研究所等機構合作，推動光子集成與半導體封裝技術發(fā)展,。例如,，Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度（100 nm）為光通信芯片提供可靠解決方案,，彰顯德國精密制造與全球產業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。Polos-BESM XL：加大加工幅面,，滿足中尺寸器件一次性成型需求。安徽德國PSP-POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學傳感器的微流控芯片,。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,，傳感器的檢測限達 1nM，較傳統(tǒng)電化學工作站提升 100 倍,。通過軟件輸入不同圖案,，可在 24 小時內完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測（POCT）設備,，使現(xiàn)場水質監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,，相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。江蘇BEAM-XL光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米光學超材料突破：光子晶體結構precise制造，賦能超透鏡與隱身技術研究,。

在微流體研究領域,，德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術,，打破傳統(tǒng)光刻的局限,，無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構建微通道網絡時,，可根據(jù)實驗需求自由設計,，快速完成從圖紙到實體的轉化。?以藥物傳輸研究為例,，利用 Polos 光刻機,，能制造出尺寸precise、結構復雜的微通道,，模擬人體環(huán)境,，讓藥物在微小空間內可控流動，much提升藥物傳輸效率研究的準確性,。同時,，在細胞培養(yǎng)實驗中，該光刻機制作的微流體芯片,，為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,，助力細胞生物學研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機,，正推動微流體研究不斷向前,。

石墨烯、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉移,，Polos 光刻機的激光直寫技術避免了傳統(tǒng)濕法轉移的污染問題,。某納米電子實驗室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列，成功制備出石墨烯場效應晶體管,，其電子遷移率達 2×10? cm2/(V?s),，接近理論極限。該技術支持快速構建多種二維材料異質結,，使器件研發(fā)效率提升 5 倍,，相關成果推動二維材料在柔性電子、量子計算領域的應用研究進入快車道,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。無掩模激光直寫技術：無需物理掩膜,，軟件直接輸入任意圖案,，降低成本與時間。

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體,。通過 STL 模型直接導入,，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結構，載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍,。動物實驗顯示，該載體在肝臟靶向遞送中,，基因轉染效率達 65%,，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌,，在 CAR-T 細胞treatment中，CAR 基因導入效率從 30% 提升至 75%,，相關技術已申請國際patent,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。雙光子聚合擴展：結合Nanoscribe技術實現(xiàn)3D微納打印，拓展微型機器人制造。河北德國POLOS桌面無掩模光刻機分辨率1.5微米

技術Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創(chuàng)新產品,，推動無掩模光刻技術普及,。安徽德國PSP-POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

針對碳化硅（SiC）功率模塊的柵極刻蝕難題，Polos 光刻機的激光直寫技術實現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,，較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍,。某新能源汽車芯片廠商利用該設備，將 SiC MOSFET 的導通電阻降低 15%,，開關損耗減少 20%,，推動車載逆變器效率突破 99%。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結構,，使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周,，助力我國在第三代半導體領域實現(xiàn)彎道超車。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。安徽德國PSP-POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米