一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上，使用德國 Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),，以促進(jìn)細(xì)胞的生長和組織的修復(fù)。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案,。通過該光刻機(jī)制造的支架，在動物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比,，使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架,，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。多材料兼容：金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,，微流控芯片集成傳感器一步成型。POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

石墨烯,、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉(zhuǎn)移,，Polos 光刻機(jī)的激光直寫技術(shù)避免了傳統(tǒng)濕法轉(zhuǎn)移的污染問題。某納米電子實(shí)驗(yàn)室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,，成功制備出石墨烯場效應(yīng)晶體管,，其電子遷移率達(dá) 2×10? cm2/(V?s)，接近理論極限,。該技術(shù)支持快速構(gòu)建多種二維材料異質(zhì)結(jié),，使器件研發(fā)效率提升 5 倍，相關(guān)成果推動二維材料在柔性電子,、量子計算領(lǐng)域的應(yīng)用研究進(jìn)入快車道,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。重慶德國POLOS光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米掩模制備時間歸零，科研人員耗時減少 60%,，項目交付周期縮短 50%,。

無掩模激光光刻技術(shù)為研究實(shí)驗(yàn)室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具，可用于創(chuàng)建亞微米級特征,，并促進(jìn)電路和器件的快速原型設(shè)計,。經(jīng)濟(jì)高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴(kuò)展至微機(jī)電系統(tǒng) (MEM),、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造,，例如以下領(lǐng)域：醫(yī)療（包括微流體）、半導(dǎo)體,、電子,、生物技術(shù)和生命科學(xué),、先進(jìn)材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達(dá)到 3.3606 億美元,，預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復(fù)合年增長率為 6.90%。由于對 5G,、AIoT,、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長，預(yù)計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加,，簡化射頻器件（如IDC電容器）制造流程。研究團(tuán)隊利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。其高重復(fù)性（0.1 μm）確保科研成果的可轉(zhuǎn)化性,，助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力,，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了基于阻變存儲器（RRAM）的存算一體架構(gòu)。其激光直寫技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實(shí)現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,，器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%,，計算能效比達(dá) 10TOPS/W，較傳統(tǒng) GPU 提升兩個數(shù)量級,?；谠摷夹g(shù)的邊緣 AI 芯片，在圖像識別任務(wù)中能耗降低 80%,，推理速度提升 3 倍,，已應(yīng)用于智能攝像頭和無人機(jī)避障系統(tǒng),，相關(guān)芯片出貨量突破百萬片。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。能源收集：微型壓電收集器效率 35%,，低頻振動發(fā)電支持無源物聯(lián)網(wǎng),。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品，推動無掩模光刻技術(shù)普及,。POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米

上海有機(jī)化學(xué)研究所通過光刻技術(shù)制備多組分納米纖維,，實(shí)現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,，Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工,，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復(fù)性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性,。掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米