在科研領(lǐng)域，設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度,。德國的 Polos - BESM,、Polos - BESM XL、SPS 光刻機(jī) POLOS μ 帶來了革新之光,。它們運(yùn)用無掩模激光光刻技術(shù),，摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長的掩模，極大降低了成本,。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,，在微流體、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手,。例如在微流體研究中,，能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò)，助力藥物傳輸,、細(xì)胞培養(yǎng)等研究,。在電子學(xué)方面，可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,，為芯片研發(fā)提供有力支持,。其占用空間小，對于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來說堪稱完美,。憑借出色特性,，它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果，成為科研創(chuàng)新的得力助手 ,。能源收集：微型壓電收集器效率 35%,，低頻振動(dòng)發(fā)電支持無源物聯(lián)網(wǎng)。四川德國桌面無掩模光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

一所高校的電子工程實(shí)驗(yàn)室專注于新型傳感器的研究,。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時(shí),，面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機(jī)的引入解決了這一困境,。其可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光的特性,，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求，設(shè)計(jì)并制作出獨(dú)特的電路結(jié)構(gòu),。通過 Polos 光刻機(jī)precise的光刻,，成功制造出的壓力傳感器,，靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項(xiàng)patent,，并吸引了多家科技企業(yè)的關(guān)注,，有望實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，為可穿戴設(shè)備,、智能機(jī)器人等領(lǐng)域帶來新的發(fā)展機(jī)遇,。重慶PSP光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米Polos-BESM：基礎(chǔ)款高性價(jià)比，適合高校實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)微納加工,。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm，平臺(tái)雙向重復(fù)性精度0.1 μm,，滿足工業(yè)級需求,。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，支持實(shí)時(shí)觀測與多層對準(zhǔn),。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程,，內(nèi)置高性能筆記本電腦實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理，成為微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。

某材料科學(xué)研究中心在探索新型納米復(fù)合材料的性能時(shí),，需要在材料表面構(gòu)建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機(jī)成為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的得力工具,。研究人員利用其無掩模激光光刻技術(shù),，在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結(jié)構(gòu)。經(jīng)過測試發(fā)現(xiàn),，帶有特定圖案的納米復(fù)合材料,，其電學(xué)、光學(xué)和力學(xué)性能發(fā)生了remarkable改變,。例如,，一種原本光學(xué)性能普通的納米材料，在經(jīng)過 Polos 光刻機(jī)處理后,，對特定波長光的吸收率提高了 30%,，為開發(fā)新型光電器件和光學(xué)傳感器提供了新的材料選擇和設(shè)計(jì)思路 。微流體3D成型：復(fù)雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。

在tumor轉(zhuǎn)移機(jī)制研究中，某tumor研究中心利用 Polos 光刻機(jī)構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片,。通過無掩模激光光刻技術(shù),，在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu)，其中血管直徑可精確控制在 10-50μm,。實(shí)驗(yàn)顯示,，該芯片模擬的tumor微環(huán)境中，tumor細(xì)胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,，且化療藥物滲透效率降低 40%,，與臨床數(shù)據(jù)高度吻合。該團(tuán)隊(duì)通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)整通道曲率和細(xì)胞外基質(zhì)密度,，成功復(fù)現(xiàn)了tumor細(xì)胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化（EMT）過程,，相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》，并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺(tái)開發(fā),。實(shí)時(shí)觀測系統(tǒng)：120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,，實(shí)現(xiàn)加工過程動(dòng)態(tài)監(jiān)控。遼寧POLOSBEAM光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品,，推動(dòng)無掩模光刻技術(shù)普及,。四川德國桌面無掩模光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

無掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升！Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù),，用戶可通過軟件直接輸入任意圖案,，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時(shí)間。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）支持5英寸晶圓的高精度加工,，特別適合實(shí)驗(yàn)室快速原型開發(fā),。閉環(huán)自動(dòng)對焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動(dòng)多層對準(zhǔn)功能，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。四川德國桌面無掩模光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米