在organ芯片研究中,，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結構。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術,，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構建出仿生血管網絡與組織界面,。某再生醫(yī)學實驗室使用 Polos 光刻機,，成功制備出肝芯片微通道,，其內皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%,，且可通過軟件實時調整通道曲率，precise模擬肝臟血流動力學,。該技術縮短了organ芯片的研發(fā)周期,，為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型，相關成果入選《自然?生物技術》年度創(chuàng)新技術案例,。Polos-BESM：基礎款高性價比，適合高校實驗室基礎微納加工,。重慶德國BEAM光刻機分辨率1.5微米

在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時，Polos 光刻機的亞微米級定位精度（±50nm）確保了圖案的均勻復制,。某光電實驗室使用該設備，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,，模板的圖案保真度達 99.8%,，邊緣缺陷率低于 0.1%?；诖四０迳a的柔性 OLED 背光模組,，亮度均勻性提升至 98%,，厚度減至 50μm,，成功應用于下一代折疊屏手機，相關技術已授權給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。上海德國PSP-POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米Polos-BESM XL：大尺寸加工空間,，保留緊湊設計,，科研級精度實現復雜結構一次性成型,。

某集成電路實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于相變材料的存算一體芯片。其激光直寫技術在二氧化硅基底上實現了 100nm 間距的電極陣列,，器件的讀寫速度達 10ns,，較傳統(tǒng) SRAM 提升 100 倍。通過在電極間集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相變材料,，芯片實現了計算與存儲的原位融合,，能效比達 1TOPS/W，較傳統(tǒng)馮?諾依曼架構提升 1000 倍,。該技術被用于邊緣計算設備,，使圖像識別延遲從 50ms 縮短至 5ms，相關芯片已進入小批量試產階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

超表面通過納米結構調控光場,，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下,。Polos 光刻機的激光直寫技術在石英基底上實現了亞波長量級的圖案曝光，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5,。某光子學實驗室利用該設備,，研制出寬帶消色差超表面透鏡，在 400-1000nm 波長范圍內成像誤差小于 5μm,。其靈活的圖案編輯功能還支持實時優(yōu)化結構參數,，使器件研發(fā)周期從數周縮短至 24 小時，推動超表面技術從理論走向集成光學應用,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創(chuàng)新產品,，推動無掩模光刻技術普及,。

某revolution生物醫(yī)學研究機構致力于開發(fā)快速,、precise的疾病診斷技術。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,，采用了德國 Polos 光刻機,。利用其無掩模激光光刻技術,，科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網絡的芯片,。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,，極大提高了檢測的靈敏度和準確性,。以往使用傳統(tǒng)光刻技術制備此類芯片，不only周期長,，且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,，助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,，相關成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學期刊上,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。光刻膠broad兼容：支持AZ5214E,、SU-8等材料，優(yōu)化參數降低側壁粗糙度,。陜西德國POLOS桌面無掩模光刻機

德國工藝：精密制造基因,，10 年以上使用壽命，維護成本低,，設備殘值率達 60%,。重慶德國BEAM光刻機分辨率1.5微米

微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻，傳統(tǒng)加工難以兼顧,。Polos 光刻機在硅基材料上實現了 50nm 深度的微溝槽加工,，為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導航陀螺結構,。通過自定義螺旋型振動梁圖案，陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h,，較商用產品性能翻倍,。該技術還被用于微推進器噴嘴陣列加工，使衛(wèi)星姿態(tài)調整精度達到亞毫牛級,，助力我國低軌衛(wèi)星星座建設取得關鍵突破,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。重慶德國BEAM光刻機分辨率1.5微米