德國 Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計(jì),，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用,。對于研究實(shí)驗(yàn)室,，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來說，設(shè)備的空間占用是重要考量因素,。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn)，使其能夠輕松融入各類實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。? 盡管體積小巧，但它的性能卻毫不遜色,。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻,。在小型實(shí)驗(yàn)室中，科研人員使用 Polos 光刻機(jī),，在微流體,、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究，成功取得多項(xiàng)成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),，Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量，為科研創(chuàng)新提供有力支持,。6英寸晶圓兼容：Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工,，工業(yè)級重復(fù)精度0.1 μm。PSP光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時(shí)，Polos 光刻機(jī)的亞微米級定位精度（±50nm）確保了圖案的均勻復(fù)制,。某光電實(shí)驗(yàn)室使用該設(shè)備,，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列，模板的圖案保真度達(dá) 99.8%,，邊緣缺陷率低于 0.1%,。基于此模板生產(chǎn)的柔性 OLED 背光模組,，亮度均勻性提升至 98%,，厚度減至 50μm，成功應(yīng)用于下一代折疊屏手機(jī),，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給三家面板制造商,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。陜西PSP光刻機(jī)可以自動聚焦波長POLOS μ 光刻機(jī)：微型化機(jī)身，納米級曝光精度,，微流體芯片制備周期縮短 40%,。

一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上，使用德國 Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),，以促進(jìn)細(xì)胞的生長和組織的修復(fù)。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計(jì)的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案,。通過該光刻機(jī)制造的支架，在動物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比,，使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%,，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。

SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計(jì)降低實(shí)驗(yàn)室設(shè)備投入,，光束引擎通過壓電驅(qū)動實(shí)現(xiàn)高速掃描（單次寫入400 μm區(qū)域）。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,，成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,，助力納米材料與柔性電子器件的快速驗(yàn)證。其無掩模特性進(jìn)一步減少材料浪費(fèi),，為中小型實(shí)驗(yàn)室提供經(jīng)濟(jì)解決方案62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。

對于納 / 微機(jī)械系統(tǒng)的研究與制造,，德國 Polos 光刻機(jī)系列展現(xiàn)出強(qiáng)大實(shí)力。無掩模激光光刻技術(shù)賦予它高度的靈活性,，科研人員能夠快速將創(chuàng)新設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為實(shí)際器件,。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機(jī)械結(jié)構(gòu)時(shí),，Polos 光刻機(jī)可precise控制激光,，確保每個(gè)部件的尺寸和形狀都符合設(shè)計(jì)要求。? 借助該光刻機(jī),，科研團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)出新型微機(jī)械傳感器,，其靈敏度和響應(yīng)速度遠(yuǎn)超傳統(tǒng)產(chǎn)品。并且,，由于系統(tǒng)占用空間小,，即使是小型實(shí)驗(yàn)室也能輕松引入。Polos 光刻機(jī)以其低成本,、高效率的特性，成為納 / 微機(jī)械系統(tǒng)領(lǐng)域的制造先鋒,，助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘,。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新：與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布，提升制造精度。浙江德國桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米

Polos-BESM XL：大尺寸加工空間,，保留緊湊設(shè)計(jì),，科研級精度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)一次性成型。PSP光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

上海有機(jī)化學(xué)研究所通過光刻技術(shù)制備多組分納米纖維,，實(shí)現(xiàn)了功能材料的精確組裝,。類似地，Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工,，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3,。設(shè)備的高重復(fù)性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性。掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。PSP光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模