無掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升,！Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù)，用戶可通過軟件直接輸入任意圖案,，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時間,。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）支持5英寸晶圓的高精度加工，特別適合實驗室快速原型開發(fā),。閉環(huán)自動對焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動多層對準功能,，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。科研成果轉(zhuǎn)化：中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細胞浸潤機制,。天津德國POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作,，推動光子集成與半導(dǎo)體封裝技術(shù)發(fā)展,。例如，Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度（100 nm）為光通信芯片提供可靠解決方案,，彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。吉林PSP光刻機MAX層厚可達到10微米未來技術(shù)儲備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝，lead微納制造前沿,。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性,。例如，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程,。研究團隊利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢。

在航空航天科研中,，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器,。其中，制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵,。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),，助力團隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪,、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu),。例如，利用該光刻機制造的微型齒輪,，齒距精度達到納米級別,，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性?；诖?，科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產(chǎn)品,，為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ),。微流體3D成型：復(fù)雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。

在微流體領(lǐng)域,，Polos系列光刻機通過無掩模技術(shù)實現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細胞球浸潤行為,，為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計策略10,。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn)，推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā),。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢?？鐚W(xué)科應(yīng)用：覆蓋微機械,、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域,。安徽BEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米

Polos-BESM XL：130mm×130mm 曝光幅面,，STL 模型直接導(dǎo)入，微流控芯片制備周期縮短 40%,。天津德國POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

某集成電路實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于相變材料的存算一體芯片,。其激光直寫技術(shù)在二氧化硅基底上實現(xiàn)了 100nm 間距的電極陣列，器件的讀寫速度達 10ns,，較傳統(tǒng) SRAM 提升 100 倍,。通過在電極間集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相變材料，芯片實現(xiàn)了計算與存儲的原位融合,，能效比達 1TOPS/W,，較傳統(tǒng)馮?諾依曼架構(gòu)提升 1000 倍。該技術(shù)被用于邊緣計算設(shè)備,，使圖像識別延遲從 50ms 縮短至 5ms,，相關(guān)芯片已進入小批量試產(chǎn)階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。天津德國POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化