形狀記憶合金,、壓電陶瓷等智能材料的微結(jié)構(gòu)加工需要高精度圖案定位,。Polos 光刻機的亞微米級定位精度，幫助科研團隊在鎳鈦合金薄膜上刻制出復(fù)雜驅(qū)動電路,，成功制備出微型可編程抓手,。該抓手在 40℃溫場中可實現(xiàn) 0.1mm 行程的precise控制，抓取力達 50mN,，較傳統(tǒng)微加工方法性能提升 50%。該技術(shù)被應(yīng)用于微納操作機器人,，在單細胞膜片鉗實驗中成功率從 40% 提升至 75%,，為細胞級precise操作提供了關(guān)鍵工具。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路,，推動5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展,。四川德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米

在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時，某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備,。其無掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,，血管內(nèi)皮細胞貼壁率達 95%，較傳統(tǒng)光刻提升 30%,。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數(shù)據(jù),，芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,，使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術(shù)為藥物肝毒性測試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型,，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面。浙江POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長高頻元件驗證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器,，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破,。

某分析化學(xué)實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,，傳感器的檢測限達 1nM,，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,，可在 24 小時內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換,。該芯片被用于即時檢測（POCT）設(shè)備，使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,，相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認證,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。

超表面通過納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光場，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下,。Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)在石英基底上實現(xiàn)了亞波長量級的圖案曝光,，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5。某光子學(xué)實驗室利用該設(shè)備,，研制出寬帶消色差超表面透鏡,，在 400-1000nm 波長范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm。其靈活的圖案編輯功能還支持實時優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù),，使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時,，推動超表面技術(shù)從理論走向集成光學(xué)應(yīng)用。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。低成本科研普惠：桌面化設(shè)計減少投入，無掩膜工藝降低中小型實驗室門檻,。

單細胞分選需要復(fù)雜的流體動力學(xué)控制結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,，通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細胞生物學(xué)實驗室利用該芯片,，將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,，分選純度達 98%，較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%,。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細胞檢測，使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,，相關(guān)設(shè)備進入臨床驗證階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。四川德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米

未來技術(shù)儲備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,，lead微納制造前沿,。四川德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米

無掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升！Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù),，用戶可通過軟件直接輸入任意圖案,，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時間。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）支持5英寸晶圓的高精度加工,，特別適合實驗室快速原型開發(fā),。閉環(huán)自動對焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動多層對準(zhǔn)功能，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。四川德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米