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海南超高速無(wú)掩膜光刻PPGT

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-08-17

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,,探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而,,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展,這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),,雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),,其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及普遍的材料-基板選擇,。因此,,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司,。海南超高速無(wú)掩膜光刻PPGT

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雙光子聚合(2PP)是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能:首先,,在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,,適用于納米和微米級(jí)打印,;其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu),,適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,,同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,,可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,,并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。QuantumXshape帶有獨(dú)特的自動(dòng)界面查找功能,可以以低至30納米的精度檢測(cè)基板表面,。這種在比較高掃描速度下的納米級(jí)精度體現(xiàn),,再加上自校準(zhǔn)程序,可在特別短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的打印,,為3D微納加工樹立了新榜樣,。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學(xué)、微流體,、材料表面工程,、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級(jí)規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。上海高分辨率無(wú)掩膜光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上特別高分辨率的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),。

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Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器,。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP),發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝,。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來(lái)打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,,打印了世界上特別小的可聚焦可見(jiàn)光的龍勃透鏡(15μm直徑),。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅),。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi),。通過(guò)調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),,對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3,。Nanoscribe一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)。

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世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,,包括球形,,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。什么是Quantum X 新型超高速無(wú)掩模光刻系統(tǒng),?請(qǐng)咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。海南高精度無(wú)掩膜光刻激光直寫

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Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印,。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,,軟件,,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),,結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹脂和生物材料,,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng),、遷移和干細(xì)胞分化。此外,,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,,包括植入物,微針和微孔膜等制作,。海南超高速無(wú)掩膜光刻PPGT