QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,高精度,,高設(shè)計自由度,簡易明了的工程流程,;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,;通用及專門使用的打印材料,;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術(shù)的便利,,很大程度提高了無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率。河南Nanoscribe無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
事實上,,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,,這兩位教授做出了當(dāng)時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達到了120nm,,超越了衍射極限,,同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì),。江蘇2PP無掩膜光刻3D微納加工想要了解無掩膜光刻的特點和用途,,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義??偠灾?,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué)、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等),。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學(xué),,微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),,非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,,光子和微流控芯片等,,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計的上限,,借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,可以輕松實現(xiàn)球形,,非球形,,自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度,??蛻羰褂肗anoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化,。
多年來,,Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,,包括等離子體技術(shù),、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今,,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器,。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助,。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷,、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗,,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),,這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,,以及組裝和制造的新方法,。了解更多無掩膜光刻的技術(shù)和產(chǎn)品信息,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。上海工業(yè)級無掩膜光刻微納光刻
Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可以實現(xiàn)微機械元件的制作,。河南Nanoscribe無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,,它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,,超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,,突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。河南Nanoscribe無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
納糯三維科技(上海)有限公司是一家有著先進的發(fā)展理念,,先進的管理經(jīng)驗,,在發(fā)展過程中不斷完善自己,,要求自己,,不斷創(chuàng)新,時刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,,在上海市等地區(qū)的儀器儀表中匯聚了大量的人脈以及**,,在業(yè)界也收獲了很多良好的評價,這些都源自于自身不努力和大家共同進步的結(jié)果,,這些評價對我們而言是比較好的前進動力,,也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強、一往無前的進取創(chuàng)新精神,,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個新高度,,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同納糯三維科技供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來,,創(chuàng)造更有價值的產(chǎn)品,,我們將以更好的狀態(tài),更認真的態(tài)度,更飽滿的精力去創(chuàng)造,,去拼搏,,去努力,讓我們一起更好更快的成長,!