3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子,，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景,。也就是說,，在納米級、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版,。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點,。浙江2PPNanoscribe微納加工系統(tǒng)

QuantumXshape平臺系統(tǒng)共有四套打印套件，為您提供不同規(guī)模制作可能性：從小特征尺寸（SF）,，中特征尺寸（MF）到大特征尺寸（LF）和如今的超大特征尺寸（XLF）,。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫場直徑，為我們提供了更多新應用可能性,。完美實現(xiàn)在一步操作中打印>10mm高度的毫米或厘米級大小的零件,。由于18.5毫米的較大工作距離，因此對包裝密度沒有限制,。該系統(tǒng)可實現(xiàn)50x50mm2的全定位打印面積,，一次打印至多30立方厘米的體積，或在一個批次處理過程中在大面積上打印多個較小的對象,。浙江2PPNanoscribe微納加工系統(tǒng)高度定制化產品,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

    對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先，他們設計了一個定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印,。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點,。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,，是對可能傾斜的基材表面的補償,。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設備的應用和光學傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎,。

所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。

IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm。納米尺度結構制造,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。浙江2PPNanoscribe微納加工系統(tǒng)

這項技術具有快速、精確和可定制的特點,。浙江2PPNanoscribe微納加工系統(tǒng)

文章中介紹了高精度3D打印,，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作,。 Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造,。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。浙江2PPNanoscribe微納加工系統(tǒng)