Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡,、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,，同時也是光通訊,、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性,。無掩膜光刻在生活中的應用。天津進口無掩膜光刻PPGT

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施,。北京雙光子無掩膜光刻環(huán)保：無掩膜光刻技術減少了廢棄物的產(chǎn)生,，因為它不需要使用掩膜，減少了掩膜的廢棄和回收問題,。

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術,，為全球客戶提供整套硬件,，軟件，打印材料和解決方案一站式服務,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件,，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術,，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）

Nanoscribe的2PP技術將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束,。來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后,，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭,。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題,。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場,，以匹配光子芯片上光波導模式場。,、可以根據(jù)不同需求進行快速的圖案設計和修改,，無需制作復雜的掩膜板。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司在無掩膜光刻中,，輻射轉(zhuǎn)移通常將時間常數(shù)掩模的圖像投射到光敏乳劑（或光刻膠）上,。天津2PP無掩膜光刻3D打印

低成本：無掩膜光刻技術降低了掩膜的成本，同時也減少了制造時間和材料浪費,。天津進口無掩膜光刻PPGT

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