超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發(fā)展的重大突破，為我們帶來了無限可能,。這項技術的出現(xiàn),，將徹底改變我們對光刻的認知,，為各行各業(yè)帶來了巨大的創(chuàng)新機遇,。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕,，從而實現(xiàn)微米級甚至納米級的精細加工,。相比傳統(tǒng)的光刻技術,，超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果,。這意味著我們可以在更短的時間內(nèi)完成更復雜的加工任務,，提高了生產(chǎn)效率。超高速灰度光刻技術在電子,、光電子,、生物醫(yī)藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域,，它可以用于制造更小,、更快的芯片和電路板，推動電子產(chǎn)品的迭代升級,。在光電子領域,，它可以用于制造高精度的光學元件，提高光學設備的性能,。在生物醫(yī)藥領域,，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實現(xiàn)更精確的醫(yī)學診斷,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點,。廣東2PP灰度光刻技術3D打印

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學,。北京Nanoscribe灰度光刻三維光刻,，灰度光刻可以***縮短制造時間，提高生產(chǎn)效率,。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復制工作,，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示,，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)灰度光刻技術可實現(xiàn)掩膜版的自適應優(yōu)化,。

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術（2GL®）,。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印,，完全設計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點在于：這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。相比于傳統(tǒng)的二進制光刻技術,，灰度光刻技術可以更高效地利用光刻膠，降低成本。吉林進口灰度光刻激光直寫

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Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）,。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外,，還可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施,。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司廣東2PP灰度光刻技術3D打印