Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,，以及非常廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中,，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明,。歡迎咨詢?cè)摷夹g(shù)還可以與雙光子聚合技術(shù)結(jié)合，實(shí)現(xiàn)高速打印高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),進(jìn)一步擴(kuò)展了其應(yīng)用范圍,。Nanoscribe灰度光刻微納加工系統(tǒng)

   Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí),，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得,。吉林高分辨率灰度光刻三維光刻灰度光刻技術(shù)可以相當(dāng)于二元套刻的多次曝光,，提高了光刻效率。

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,，名為3D無掩模光刻,。無論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,，而且精度非常高,，能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域，極大地節(jié)省了加工時(shí)間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進(jìn)行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,，3D無掩模光刻是您的比較好選擇,。它能夠?yàn)槟?jié)省時(shí)間和精力，讓您專注于更重要的事情,。立即購買,，體驗(yàn)高效、高精度的3D無掩模光刻吧,！

該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,，可實(shí)現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。灰度光刻技術(shù)可實(shí)現(xiàn)掩膜版的自適應(yīng)優(yōu)化,。

  雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問題,。廣東2GL灰度光刻

灰度光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構(gòu)制造,，滿足日益增長(zhǎng)的微電子和光電子器件對(duì)精確結(jié)構(gòu)的需求。Nanoscribe灰度光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度,，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上,。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè)，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上,。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的,。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果,。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。Nanoscribe灰度光刻微納加工系統(tǒng)