Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機競爭,，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案,；LithoProf3D,，一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin,。作為市場上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”,，可實現(xiàn)高精度增材制造,，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認為該打印機能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”,，該打印機依賴于基于移動鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統(tǒng)控制單元,，并結(jié)合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,，并且對第三方或定制材料開放,。此外，它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠程訪問軟件nanoConnectX進行控制,，允許遠程控制連接打印機的打印作業(yè),，將實驗室的準(zhǔn)備時間減少到限度低值，并在共享系統(tǒng)時簡化團隊協(xié)作,。

光固化光刻技術(shù),，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。微納Nanoscribe微納光刻

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。Nanoscribe成立于 2007 年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。

2GLNanoscribe微機械更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,，歡迎聯(lián)系 納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開,，在微流控研究中,，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中,。生命科學(xué)研究的驅(qū)動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架,，以推動細胞培養(yǎng)和組織工程學(xué)。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就,，并強調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性,。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料,，逐層固化,。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米,。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍,。此外,，使用GT2，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板,，材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求,。

更多有關(guān)增材制造的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。

Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。重慶超高速NanoscribeQuantum X shape

Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料，微納機器人等等,。微納Nanoscribe微納光刻

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。 微納Nanoscribe微納光刻