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廣東德國Nanoscribe3D微納加工

來源: 發(fā)布時間:2024-06-04

    傳統(tǒng)3D打印難以實(shí)現(xiàn)對于復(fù)雜設(shè)計或曲線形狀的高分辨率3D打印,必須切片并分為大量水平和垂直層,。這會明顯增加對于平滑,、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時間。雙光子聚合技術(shù)(2PP)則可以解決這個難題,。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)可實(shí)現(xiàn)體素調(diào)節(jié),,從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實(shí)現(xiàn)的,。并且,,這項(xiàng)技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®,,該技術(shù)具備實(shí)現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì),,并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實(shí)現(xiàn)實(shí)時動態(tài)調(diào)整激光功率,。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整,,以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,,您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級表面的任意3D打印設(shè)計的真實(shí)完美形狀,。 Nanoscribe的打印設(shè)備具有高度3D設(shè)計自由度的特點(diǎn),而且具備人性化的操作系統(tǒng),。廣東德國Nanoscribe3D微納加工

廣東德國Nanoscribe3D微納加工,Nanoscribe

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭 德國工業(yè)級Nanoscribe生物工程微納機(jī)械系統(tǒng),咨詢納糯三維科技(上海)有限公司,。

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Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù),,可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn)。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3D printing by 2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度,,適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域,。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實(shí)現(xiàn)實(shí)時動態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,,您將獲得具有無瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計的真實(shí)完美形狀。

   Nanoscribe設(shè)備專注于納米,,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中,,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化,。使用雙光子聚合,,分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,,GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,,通常為160納米至毫米范圍。此外,,使用GT2,,用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,,基板,材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,,用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,,滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術(shù)的發(fā)展,,為客戶提供高質(zhì)量、高效率的解決方案,。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭       使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復(fù)雜的3D微支架,。德國工業(yè)級Nanoscribe生物工程

這項(xiàng)技術(shù)具有快速,、精確和可定制的特點(diǎn)。廣東德國Nanoscribe3D微納加工

IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm,。  廣東德國Nanoscribe3D微納加工