借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī),。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米、微米,、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型,。易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化：無(wú)掩膜光刻技術(shù)自動(dòng)化程度較高，可以減少人工干預(yù),，提高生產(chǎn)效率,。湖北Nanoscribe無(wú)掩膜光刻3D微納加工

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,。總而言之,，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn),，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間,。湖南雙光子無(wú)掩膜光刻設(shè)備我們的無(wú)掩膜光刻寫技術(shù)精細(xì)可靠，保證產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),，用于快速,，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作,?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片,，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度在無(wú)掩膜光刻中，輻射轉(zhuǎn)移通常將時(shí)間常數(shù)掩模的圖像投射到光敏乳劑（或光刻膠）上,。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái),。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率,。高精度：由于直接使用數(shù)字圖案進(jìn)行曝光,。上海德國(guó)無(wú)掩膜光刻3D光刻

無(wú)掩膜光刻在生活中的應(yīng)用。湖北Nanoscribe無(wú)掩膜光刻3D微納加工

由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,，同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì)，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度,。由于其光學(xué)特性,，高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用，例如光電應(yīng)用中,，他們可以增加顯示設(shè)備,、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺(jué)特性。此外,，這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件,。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng)，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測(cè)的微透鏡,。湖北Nanoscribe無(wú)掩膜光刻3D微納加工