Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明,。灰度光刻技術(shù)是一種非接觸,、高精度的光刻技術(shù),，具有較高的靈活性和自由度。德國Nanoscribe灰度光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面，微光學(xué)元件,，機械超材料和3D細(xì)胞支架等,。歡迎咨詢德國Nanoscribe灰度光刻灰度光刻技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù)，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu)，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作，并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制,?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性,。通過先進的光刻技術(shù),，它能夠在微米級別上進行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平,。同時,，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過程中的誤差和損耗,，提高了生產(chǎn)效率,。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術(shù),，**縮短了生產(chǎn)周期,。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備，它的生產(chǎn)速度提高了30%,，提升了我們的生產(chǎn)效率,。同時，設(shè)備還具備多通道同時加工的能力,，可以同時處理多個產(chǎn)品,，進一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng),。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學(xué),，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。黑龍江2GL灰度光刻無掩光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀,。德國Nanoscribe灰度光刻

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說,，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。德國Nanoscribe灰度光刻