Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,，以及比較廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中,，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。高精度無掩膜光刻寫,，為您提供高效,、精細(xì)的加工解決方案。海南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司海南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速,，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片,，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì),。另外,，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。歡迎咨詢無掩膜光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)非常高的加工精度和分辨率,，適用于微米和納米級(jí)別的加工要求,。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。,。想要了解無掩膜光刻的技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。海南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

無掩膜光刻技術(shù)在全球范圍內(nèi)受到高度關(guān)注,。海南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開，在微流控研究中,，通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法,。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中。生命科學(xué)研究的驅(qū)動(dòng)力是三維打印模擬人類細(xì)胞形狀和大小的支架,，以推動(dòng)細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程學(xué),。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國于利希研究中心的研究團(tuán)隊(duì)展示了他們的成就，并強(qiáng)調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性,。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中,，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)3D打印了一個(gè)超小型單纖光鑷,，以實(shí)現(xiàn)集成微納光學(xué)系統(tǒng),。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學(xué)（WWU）研究人員所示,，Nanoscribe微納加工技術(shù)正在驅(qū)動(dòng)研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法,。麻省理工學(xué)院（MIT）的科學(xué)家們正在使用Nanoscribe的2PP技術(shù)制造用于高密度集成光子學(xué)的光學(xué)自由形式耦合器,。海南工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻