光學(xué)元件如何對準(zhǔn)并打印到光子芯片上,？打印對象的 3D 對準(zhǔn)技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓?fù)淅L制的共聚焦單元,。 為了精確對準(zhǔn)光子芯片上的光學(xué)元件,，智能軟件算法會自動識別預(yù)定義的標(biāo)記和拓?fù)涮卣鳎源_定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向,。 然后將虛擬坐標(biāo)系設(shè)置到波導(dǎo)的出口，使其光軸和方向完美對準(zhǔn),。 根據(jù)該坐標(biāo)系打印的光學(xué)元件可確保好的光學(xué)質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗,。 該項(xiàng)技術(shù)可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實(shí)現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技（上海）有限公司了解更多雙光子微納3D打印技術(shù)和產(chǎn)品信息,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司,。雙光子聚合Nanoscribe

   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn),。首先,，他們設(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn),。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)浙江實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)更多有關(guān)雙光子灰度光刻的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等）  

Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn),。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3D printing by 2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度,，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面,。整個(gè)打印過程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀,?？焖僭椭谱鳎稍兗{糯三維科技（上海）有限公司,。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ,，發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）,。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。四川高分辨率Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。雙光子聚合Nanoscribe

Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目,。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織,，用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印,。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,，例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,，可以識別這些特定的基板標(biāo)記,，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標(biāo)配,。雙光子聚合Nanoscribe